[实用新型]一种碳化硅外延片生长载具及设备

权利要求书

1.一种碳化硅外延片生长载具，其特征在于：包括承载盘、盖环和衬底，所述盖环径向拼接于所述承载盘上，所述衬底径向拼接于所述盖环上，所述衬底和所述承载盘之间具有生长间隙；

所述承载盘的上部开设有第一拼接槽，所述盖环适于安装至所述第一拼接槽内，所述第一拼接槽的深度小于所述盖环的厚度；

所述盖环的上部开设有第二拼接槽，所述衬底适于安装至所述第二拼接槽内，所述第二拼接槽的深度大于所述衬底的厚度。

2.如权利要求1所述的一种碳化硅外延片生长载具，其特征在于：所述第二拼接槽的底面到所述承载盘的上表面之间的距离为0.3mm至1mm之间；所述第二拼接槽的四周设置有连接斜面，所述连接斜面与所述第二拼接槽的底面之间的夹角为α，30°≤α≤60°。

3.如权利要求1所述的一种碳化硅外延片生长载具，其特征在于：所述生长间隙在0.3mm至1mm之间。

4.如权利要求1所述的一种碳化硅外延片生长载具，其特征在于：所述盖环向内侧凸起形成有定位部，所述定位部适于卡接所述衬底使所述衬底与所述盖环保持周向相对静止。

5.如权利要求1所述的一种碳化硅外延片生长载具，其特征在于：所述盖环的外沿向下延伸设置有连接环，所述连接环适于套设至所述承载盘的外侧。

6.如权利要求1所述的一种碳化硅外延片生长载具，其特征在于：所述承载盘表面不涂覆涂层或涂覆碳化钽涂层。

7.如权利要求1所述的一种碳化硅外延片生长载具，其特征在于：所述盖环表面涂覆碳化硅涂层或碳化钽涂层。

8.一种碳化硅外延片生长设备，其特征在于：包括旋转基座，所述旋转基座上设置权利要求1至7任一权利要求所述的一种碳化硅外延片生长载具。