[实用新型]一种物料回收系统有效
| 申请号: | 202320120424.6 | 申请日: | 2023-02-02 |
| 公开(公告)号: | CN219209857U | 公开(公告)日: | 2023-06-20 |
| 发明(设计)人: | 钟安云;黄建;乔双印 | 申请(专利权)人: | 江西佳因光电材料有限公司 |
| 主分类号: | B01J3/04 | 分类号: | B01J3/04;B01J3/03;B08B9/08 |
| 代理公司: | 北京清亦华知识产权代理事务所(普通合伙) 11201 | 代理人: | 何世磊 |
| 地址: | 330013 江西*** | 国省代码: | 江西;36 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 物料 回收 系统 | ||
本实用新型提供了一种物料回收系统,包括物料缓存装置、溶剂存储装置以及物料接收装置,物料缓存装置内设有待回收物料,溶剂存储装置内设有溶解待回收物料的溶剂,物料缓存装置自底向外设有第一流动管,溶剂存储装置自底向外设有第二流动管,物料接收装置自顶向外设有第三流动管,第一流动管、第二流动管、第三流动管通过三通阀相互连通,物料缓存装置的侧壁设有第一增压管与第一储气罐连通,溶剂存储装置的侧壁设有第二增压管与第二储气罐连通。通过在装置内施加压力,使得溶剂将残留的物料溶解,然后将溶解物料的溶剂回收利用,提高了残留物料的回收利用,适合大范围推广。
技术领域
本实用新型涉及化工生产领域,具体涉及一种物料回收系统。
背景技术
MO源即高纯金属有机化合物,是采用金属有机化学气相沉积(MOCVD)技术进行外延生长时的支撑材料,如GaAs、GaN、InP、AlGaAs等化合物半导体超薄型膜材料,可用来生产LED外延片、HEMT器件、半导体激光器、太阳能电池等;是发展光电子产业的关键材料之一,也是生产高亮度、超高亮度发光材料及大规模集成电路的必备原料。
MO源需要达到6N(99.9999%)以上的产品纯度才合格,MO源产品主要包括三甲基镓、三甲基铟、三乙基镓、三甲基铝等,在生产过程中需要经过粗分离纯化、细分离纯化、超细分离纯化的生产的过程且MO源具有非常活泼的化学性质,对空气和水极为敏感,在空气中会瞬间自燃,遇水则会发生猛烈爆炸,生产过程中,MO源反应罐内的物料往往不能完全反应生成产品,反应罐内会残留有大量的物料。
目前,反应罐内的残余物料直接清理比较困难,一般采用放置自然氧化法对其进行清空处理,然而由于反应罐内的MO源类物料活泼的化学性质,在自然氧化过程中容易产生危险、污染周边环境,而且自然氧化也造成了物料的大量浪费。
实用新型内容
基于此,本实用新型的目的是提供一种物料回收系统,以解决现有技术中MO源类物料自然氧化过程中容易产生危险、污染周边环境,且自然氧化也造成了物料的大量浪费的问题。
本实用新型提供一种物料回收系统,包括物料缓存装置、溶剂存储装置以及物料接收装置,所述物料缓存装置内设有待回收物料,所述溶剂存储装置内设有溶解所述待回收物料的溶剂,所述物料缓存装置自底向外设有第一流动管,所述溶剂存储装置自底向外设有第二流动管,所述物料接收装置自顶向外设有第三流动管,所述第一流动管、所述第二流动管、所述第三流动管通过三通阀相互连通,所述物料缓存装置的侧壁设有第一增压管与第一储气罐连通,所述溶剂存储装置的侧壁设有第二增压管与第二储气罐连通。
本实用新型的有益效果是:本实用新型提供一种物料回收系统,包括物料缓存装置、溶剂存储装置以及物料接收装置,通过溶剂存储装置内存储的溶剂溶解待回收的物料,通过在第二储气罐给溶剂存储装置内增压,溶剂存储装置内的溶剂自底向外通过第二流动管和第一流动管压入物料缓存装置,在物料缓存装置中,物料与溶剂溶解后,再通过第一储气罐给物料存储装置增压,物料溶解在溶剂内后自底向外再通过第一流动管和第三流动管压入物料接收装置。最后将物料接收装置内的物料进行进一步处置回收。本实用新型通过在装置内施加压力,使得溶剂将残留的物料溶解,然后将溶解物料的溶剂回收利用,提高了残留物料的回收利用,适合大范围推广。
优选的,所述溶剂存储装置的侧壁还设有第一氮封管,所述第一氮封管通过第一氮封阀与第一氮封装置连通,所述溶剂存储装置与所述第一氮封阀之间设有第一压力检测装置。
优选的,所述物料接收装置的侧壁还设有第二氮封管,所述第二氮封管通过第二氮封阀与第二氮封装置连通,所述物料接收装置与所述第二氮封阀之间设有第二压力检测装置。
优选的,所述第一流动管靠近所述物料缓存装置、所述第二流动管靠近所述溶剂存储装置以及所述第三流动管靠近所述物料接收装置的位置均设有第一气动阀。
优选的,所述第三流动管上设有流量传感器,所述流量传感器设于所述第一气动阀与所述三通阀之间。
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