[发明专利]一种滤光片及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种滤光片的制备方法，包括以下步骤：

在组合基底表面磁控溅射金属薄膜（5）后与第二固定环（4）结合，得到初级滤光片；所述组合基底包括第一固定环（2）和与所述第一固定环（2）内表面结合的可溶性衬底（1）；所述第二固定环（4）和第一固定环（2）分别位于金属薄膜（5）两侧；

将所述初级滤光片浸泡于溶解剂，得到所述滤光片。

2.根据权利要求1所述制备方法，其特征在于，所述组合基底的制备方法包括以下步骤：

将第一固定环（2）浸泡于可溶性衬底溶液中进行结晶，得到组合基底。

3.根据权利要求2所述制备方法，其特征在于，所述可溶性衬底溶液为氯化钠溶液；所述可溶性衬底溶液中含有片状结晶种子，所述片状结晶种子置于第一固定环（2）中心；

所述结晶为蒸发结晶或降温结晶，所述降温结晶的温度为0~5℃。

4.根据权利要求1~3任一项所述制备方法，其特征在于，所述可溶性衬底（1）的厚度不小于第一固定环（2）的厚度。

5.根据权利要求4所述制备方法，其特征在于，所述结晶后还包括：将结晶后冗余的晶体进行打磨和抛光。

6.根据权利要求1所述制备方法，其特征在于，所述第一固定环（2）和第二固定环（4）独立的包括若干螺孔（3），所述结合为利用螺栓通过螺孔（3）结合。

7.根据权利要求1或6所述制备方法，其特征在于，所述第一固定环（2）和第二固定环（4）的形状一致；所述第一固定环（2）和第二固定环（4）的内环横截面形状包括圆形、矩形或六边形；所述第一固定环（2）和第二固定环（4）的厚度为1~3mm。

8.根据权利要求1所述制备方法，其特征在于，所述磁控溅射的真空度为1×10^-4~3×10^-4Pa；所述金属薄膜的厚度为0.1~2μm。

9.按照权利要求1~8任一项所述制备方法制备得到的滤光片，其特征在于，所述滤光片包括第一固定环（2）、第二固定化（4）和边缘被所述第一固定环（2）和第二固定环（4）夹持的金属薄膜（5）。

10.权利要求9所述滤光片在极紫外光刻、同步辐射或空间探测中的应用。