[发明专利]一种半导体紫光紫外发光二极管在审

专利信息
申请号: 202310782298.5 申请日: 2023-06-29
公开(公告)号: CN116666513A 公开(公告)日: 2023-08-29
发明(设计)人: 张江勇;王星河;李水清;蔡鑫;胡志勇;张会康;请求不公布姓名 申请(专利权)人: 安徽格恩半导体有限公司
主分类号: H01L33/14 分类号: H01L33/14;H01L33/06;H01L33/32
代理公司: 北京文慧专利代理事务所(特殊普通合伙) 11955 代理人: 戴丽伟
地址: 237161 安*** 国省代码: 安徽;34
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 半导体 紫光 紫外 发光二极管
【说明书】:

发明提出一种半导体紫光紫外发光二极管,包括从下至上依次设置的衬底、n型半导体、超晶格层、量子阱层、电子阻挡层和p型半导体,所述超晶格层与量子阱层之间设置有电子匹配层,所述量子阱层与电子阻挡层之间设置有空穴匹配层,所述超晶格层、电子匹配层、量子阱层和空穴匹配层组成电子空穴匹配控制层,所述电子空穴匹配控制层具有Si掺杂浓度变化趋势和Mg掺杂浓度变化趋势,所述超晶格层具有Al组分梯度和厚度梯度。本发明通过控制注入量子阱层的电子浓度和增强注入量子阱层的空穴浓度,以提升量子阱层中电子和空穴浓度的匹配程度,增强量子阱层电子空穴波函数的交叠几率,从而提升半导体紫光紫外发光二极管的量子效率和发光效率。

技术领域

本申请涉及半导体光电器件领域,尤其涉及一种半导体紫光紫外发光二极管。

背景技术

半导体元件特别是半导体发光元件具有可调范围广泛的波长范围,发光效率高,节能环保,可使用超过10万小时的长寿命、尺寸小、应用场景多、可设计性强等因素,蓝光(发光波长440-460nm)和绿光(发光波长520-540nm)搭配荧光粉已逐渐取代白炽灯和荧光灯,成长普通家庭照明的光源,并广泛应用新的场景,如户内高分辨率显示屏、户外显屏、Mini-LED、Micro-LED、手机电视背光、背光照明、路灯、汽车大灯、车日行灯、车内氛围灯、手电筒等应用领域。

紫外发光二极管(发光波长350-420nm)UVA波段可应用于3D固化、美甲固化、光疗、皮肤治疗、植物照明等应用领域。半导体紫外发光二极管使用蓝宝石衬底生长,晶格失配和热失配大,导致较高的缺陷密度和极化效应,降低半导体发光元件的发光效率;同时,氮化物半导体结构具有非中心对称性,沿c轴方向会产生较强的自发极化,叠加晶格失配的压电极化效应,形成本征极化场;该本征极化场沿(001)方向,使多量子阱层产生较强的量子限制Stark效应,引起能带倾斜和电子空穴波函数空间分离,降低电子空穴的辐射复合效率;半导体紫外发光二极管的空穴离化效率远低于电子离化效率,导致空穴浓度低于电子浓度2个数量级以上,过量的电子会从多量子阱溢出至第二导电型半导体产生非辐射复合,空穴离化效率低会导致第二导电型半导体的空穴难以有效注入多量子阱中,空穴注入多量子阱的效率低,导致多量子阱的发光效率低。与传统半导体蓝光发光二极管不同,半导体紫外发光二极管因波长较短,量子阱的In含量较低,无法在量子阱区域形成In组分涨落的量子限制效应,导致量子阱的电子空穴局域效应较弱,进一步加剧电子空穴不匹配。

发明内容

为解决上述技术问题之一,本发明提供了一种半导体紫光紫外发光二极管。

本发明实施例提供了一种半导体紫光紫外发光二极管,包括从下至上依次设置的衬底、n型半导体、超晶格层、量子阱层、电子阻挡层和p型半导体,所述超晶格层与量子阱层之间设置有电子匹配层,所述量子阱层与电子阻挡层之间设置有空穴匹配层,所述超晶格层、电子匹配层、量子阱层和空穴匹配层组成电子空穴匹配控制层,所述电子空穴匹配控制层具有Si掺杂浓度变化趋势和Mg掺杂浓度变化趋势,所述超晶格层具有Al组分梯度和厚度梯度。

优选地,所述电子空穴匹配控制层中Si掺杂浓度变化趋势为:自电子匹配层向超晶格层方向下降,Si掺杂下降角度为α:30≤α≤70,再由超晶格层向n型半导体方向上升,Si掺杂上升角度为β:40≤β≤80,以及自电子匹配层向量子阱层方向下降,Si掺杂下降角度为γ:40≤γ≤80。

优选地,所述电子匹配层具有Si掺杂浓度峰,所述Si掺杂浓度峰的峰值位置的Si掺杂浓度为5E17cm-3至5E18cm-3

优选地,所述超晶格层具有Si掺杂浓度谷,所述Si掺杂浓度谷的谷值位置的Si掺杂浓度为1E16cm-3至1E17cm-3

优选地,所述电子空穴匹配控制层中Mg掺杂浓度变化趋势为:自空穴匹配层向量子阱层方向下降,Mg掺杂浓度下降角度为θ:45≤θ≤90。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于安徽格恩半导体有限公司,未经安徽格恩半导体有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202310782298.5/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top