[发明专利]一种立式抛光机打磨研磨设备在审
申请号: | 202310608624.0 | 申请日: | 2023-05-28 |
公开(公告)号: | CN116372754A | 公开(公告)日: | 2023-07-04 |
发明(设计)人: | 李雨雪;张文君;李伟;金建虎;罗豪;杜骏 | 申请(专利权)人: | 苏州理湃科技有限公司 |
主分类号: | B24B21/00 | 分类号: | B24B21/00;B24B21/18;B24B27/00;B24B41/04;B24B49/12 |
代理公司: | 北京法筑知识产权代理有限公司 16100 | 代理人: | 沈建华 |
地址: | 215300 江苏省*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 立式 抛光机 打磨 研磨 设备 | ||
1.一种立式抛光机打磨研磨设备,其特征在于,其包括:
基座(1),其内设有安装空间(2),安装空间(2)内设有在竖向间隔分布的驱动电机(3);
两个安装壳体(4),其设置在所述基座(1)的两侧,并且其内部设有与多个所述驱动电机(3)一一对应连接的多个传动轴(5),传动轴(5)上设有驱动轮,多个驱动轮上套设有抛光砂带(6);
研磨装置(13),其安装在所述基座(1)上,并且其输出轴连接的打磨砂轮(15)位于所述安装空间(2)内;在基座(1)的宽度方向上,打磨砂轮(15)和抛光砂带(6)之间具有第一间隔距离,以在两者之间形成工作空间;
支架(7),其位于所述工作空间内,并且其底部安装在所述安装壳体(4)的内底壁上,支架(7)的顶部设有沿所述基座(1)长度方向设置的铰接轴,支架(7)通过铰接轴连接有工作平台(8);
第一调节组件(9),其用于使所述工作平台(8)以铰接轴的轴心为旋转轴进行转动,并检测工作平台(8)的旋转角度
第二调节组件(10),其安装在所述工作平台(8)上,并连接有第三调节组件(11);第一调节组件(9)用于在基座(1)的长度方向上移动第三调节组件(11),并检测第三调节组件(11)的移动距离;
工件夹持组件(12),其通过所述第三调节组件(11)与第一调节组件(9)连接,第三调节组件(11)用于使工件夹持组件(12)以其自身轴线进行旋转,并检测旋转角度;
控制组件,其与所述第一调节组件(9)、第二调节组件(10)和第三调节组件(11)连接,以控制工作平台(8)的姿态和工件夹持组件(12)的姿态。
2.如权利要求1所述的立式抛光机打磨研磨设备,其特征在于:
还包括处理装置;
所述安装壳体(4)上还有图像获取装置(14),图像获取装置(14)用于拍摄工件在打磨和抛光时的图片,并传输至处理装置,处理装置用于根据获得的图片,判断打磨或抛光的程度手否符合标准;若符合标准,则发出第一提示音;否则,发出第二提示音。
3.如权利要求1所述的立式抛光机打磨研磨设备,其特征在于:
所述支架(7)包括两根间隔设置的竖杆(700),竖杆(700)的顶部设有固定圆圈(702);固定圆圈(702)转动连接有铰接轴;铰接轴上且位于两根竖杆(700)之间设有固定套(701),固定套(701)连接有工作平台(8);在基座(1)的长度方向上,固定套(701)的长度大于工作平台(8)的宽度;
第一调节组件(9)包括第一舵机和角度传感器;第一舵机和铰接轴传动连接,并且通过紧固杆和所述固定圆圈(702)固定连接。
4.如权利要求3所述的立式抛光机打磨研磨设备,其特征在于:
两个所述固定圆圈(702)的顶部设有挡板(703),两个挡板(703)形成U型结构;当工作平台(8)处于竖直状态时,挡板(703)与工作平台(8)平行;
所述支架(7)还包括支杆(704),当工作平台(8)处于水平状态时,支杆(704)与工作平台(8)的底部抵持。
5.如权利要求1所述的立式抛光机打磨研磨设备,其特征在于:
所述工作平台(8)上设有沿基座(1)长度方向设置的滑槽;
第二调节组件(10)包括滑块(1000)、丝杠(1001)、第二舵机(1002)和位移传感器;滑块(1000)安装在滑槽内,丝杠(1001)穿设所述滑块(1000),并安装在滑槽内,第二舵机(1002)固定在工作平台(8)上,并与丝杠(1001)传动连接。
6.如权利要求5所述的立式抛光机打磨研磨设备,其特征在于:
所述第三调节组件(11)包括连接竖板(1100),连接竖板(1100)与所述滑块(1000)的顶部固定连接;连接竖板(1100)上设有安装有第三舵机(1101);第三舵机(1101)的输出端沿基座(1)长度方向设置,并与所述工件夹持组件(12)连接。
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