[发明专利]一种硅片抛光组合物及其应用

权利要求书

1.一种硅片抛光组合物，其特征在于，所述硅片抛光组合物以二氧化硅水溶胶为抛光磨料、有机碱为速率促进剂，并添加有芳基正离子化合物及水溶性改性硅油。

2.根据权利要求1所述的硅片抛光组合物，其特征在于，以所述抛光组合物的总质量计，包括以下重量百分含量的组分：

余量为去离子水。

3.根据权利要求1或2所述的硅片抛光组合物，其特征在于，所述二氧化硅水溶胶的粒径为10-120nm，优选为30-90nm，固含量为10-50wt％，优选为20-40wt％。

4.根据权利要求1或2所述的硅片抛光组合物，其特征在于，所述速率促进剂选自甲基胺、二甲基胺、三甲基胺、乙基胺、二乙基胺、三乙基胺、乙二胺、丙二胺、丁二胺、乙基乙二胺、单乙醇胺、N-(β-胺基乙基)乙醇胺、六亚甲基二胺、二亚乙基三胺、三亚己基四胺、1-(2-胺基乙基)哌嗪、N-甲基哌嗪、哌嗪、咪唑、甲基咪唑、1，2，4三氮唑、4-氨基-1,2,4-三氮唑、碳酸胍、盐酸胍、硝酸胍、四甲基氢氧化铵、四甲基氯化铵、四甲基溴化铵、四甲基氟化铵、四乙基氢氧化铵、四丙基氢氧化铵、四丁基氢氧化铵、四乙基氯化铵、四乙基溴化铵、四乙基氟化铵中的至少任一种；优选为四甲基氢氧化铵。

5.根据权利要求1或2所述的硅片抛光组合物，其特征在于，所述芳基正离子化合物为在水溶液中其含有芳基的主体部分能电离或质子化后形成带有至少一个正电荷的化合物。

6.根据权利要求5所述的硅片抛光组合物，其特征在于，所述芳基正离子化合物选自苯并咪唑、喹啉、苯胺、2-羟基苯胺、苯甲胺、4-羟基苯甲胺、苯乙胺、2-氨基-1-苯乙醇、苯丙胺、4-氨基联苯、联苯胺、4-氯邻甲苯胺、2-萘胺、邻氨基偶氮甲苯、5-硝基-邻甲苯胺、4-氯苯胺、4-二氨基苯甲醚、3,3′-二氯联苯胺、3,3′-二甲基联苯胺、2-甲基苯胺、2,4-二氨基甲苯、2,4,5-三甲基苯胺、2-甲氧基苯胺、4-氨基偶氮苯、2,4-二甲基苯胺、2,6-二甲基苯胺、苄基三甲基氯化铵、苄基三甲基氢氧化铵、苄基三乙基氯化铵、苄基三乙基氢氧化铵、苯基三甲基氯化铵、苯基三甲基氢氧化铵中的至少任一种；优选为苯并咪唑、2-羟基苯胺、卞基三甲基氯化铵中的至少任一种。

7.根据权利要求1或2所述的硅片抛光组合物，其特征在于，所述水溶性改性硅油选自聚醚改性硅油、氨基改性硅油、环氧改性硅油、羧基改性硅油、醇羟基改性硅油、酚羟基改性硅油、巯基改性硅油、聚二有机硅氧烷一聚醚嵌段共聚改性硅油、烷基与聚醚共改性硅油、烷基醚聚醚硅油、环氧基聚醚硅油、氨基聚醚嵌段硅油、甘油醚基硅油、磷酸酷基硅油、糖基聚醚硅油、甜菜碱基硅油中的至少任一种，优选为聚醚改性硅油、氨基改性硅油、环氧改性硅油。

8.根据权利要求1或2所述的硅片抛光组合物，其特征在于，所述pH调节剂选自氯化氢、硝酸、硫酸、磷酸、氢氧化钠、氢氧化钾、氢氧化锂、四甲基氢氧化铵、咪唑、哌嗪、甲基咪唑、1,2,4-三氮唑、四甲基胍、甲酸、乙酸、丙酸、衣康酸、琥珀酸、酒石酸、柠檬酸、马来酸、乙醇酸、丙二酸、草酸、丁二酸、苹果酸、葡萄糖酸、丙氨酸、甘氨酸、乳酸、三氟乙酸、乙二胺四乙酸、氮川三乙酸、二乙烯三胺五乙酸、三乙烯二胺、丙二胺四乙酸、羟乙基乙二胺、羟乙基乙二胺三乙酸、焦磷酸、2-氨基乙基膦酸、1-羟基乙叉1,1-二膦酸、氨基三亚甲基膦酸、乙二胺四亚甲基膦酸、二亚乙基三胺五亚甲基膦酸、乙烷-1,1-二膦酸、乙烷-1,1,2-三膦酸、甲烷羟基膦酸、1-膦酰基丁烷-2,3,4-三羧酸或其盐类中的至少任一种，优选为柠檬酸、丙二酸、酒石酸、乙二胺四乙酸、丙二胺四乙酸、羟乙基乙二胺三乙酸中的至少任一种，更优选为草酸、氯化氢、氢氧化钾、四甲基氢氧化铵中的任一种。

9.根据权利要求8所述的硅片抛光组合物，其特征在于，所述硅片抛光组合物的pH值控制在9.5-12.5之间。

10.权利要求1～9任一项所述的硅片抛光组合物在硅片化学机械抛光中的应用。