[发明专利]一种表面带球的晶圆倒膜设备在审
申请号: | 202310553358.6 | 申请日: | 2023-05-16 |
公开(公告)号: | CN116525498A | 公开(公告)日: | 2023-08-01 |
发明(设计)人: | 殷志鹏;殷泽楠 | 申请(专利权)人: | 东莞市译码半导体有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/677;H01L21/683 |
代理公司: | 北京鹏帆慧博知识产权代理有限公司 11903 | 代理人: | 祝辽原 |
地址: | 523000 广东省东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 表面 带球 晶圆倒膜 设备 | ||
本发明提供了一种表面带球的晶圆倒膜设备,包括机架,所述机架的两端设有胶带输送机构,所述胶带输送机构的中部设有下台盘,所述下台盘上设有真空吸附机构和加热机构,所述下台盘的上方通过驱动机构设置有上台盘;通过设置胶带输送机构,能够连续不断地进行TAPE的输送,晶圆与TAPE在下台盘和上台盘的作用下倒膜,使凸点贴合在TAPE上,晶圆背面朝上使用,很好的解决了因凸点导致不能贴合的问题及IC错位的问题。
技术领域
本发明涉及半导体加工领域,特别是涉及一种表面带球的晶圆倒膜设备。
背景技术
随着现代电子装置对小型化、轻量化、高性能化、多功能化、低功耗化和低成本化方面的要求不断提高,IC芯片的特征尺寸不断缩小,且集成规模迅速扩大,芯片封装技术也在不断革新,凸点加工工艺(Bumpprocessflow)也因此发展起来,然而,表面带球的晶圆倒膜主要依靠人工操作,效率较低,且因晶圆表面有凸点导致其不能很好的贴合在TAPE上面,易出现飞DIE、错位现象,导致后工序无法正常使用。
因此,亟需一种表面带球的晶圆倒膜设备,能够解决现有表面带球的晶圆在倒膜时主要依靠人工操作,效率低且效果较差的问题。
发明内容
本发明的目的是提供一种表面带球的晶圆倒膜设备,以解决上述现有表面带球的晶圆在倒膜时主要依靠人工操作,效率低且效果较差的问题。
为实现上述目的,本发明提供了如下方案:
本发明提供一种表面带球的晶圆倒膜设备,包括机架,所述机架的两端设有胶带输送机构,所述胶带输送机构的中部设有下台盘,所述下台盘上设有真空吸附机构和加热机构,所述下台盘的上方通过驱动机构设置有上台盘。
优选地,所述胶带输送机构包括放卷辊,所述放卷辊可转动地设置于所述机架的一端,所述放卷辊上缠设有胶带,所述放卷辊的对侧设有收卷辊,所述收卷辊可转动地设置于所述机架的另一端,并与收卷电机传动连接,所述下台盘设置于所述放卷辊与所述收卷辊之间。
优选地,所述放卷辊的端部通过弹簧连接有张紧辊,所述张紧辊作用于胶带上。
优选地,所述下台盘的上表面设有柔性盘面,所述柔性盘面的周围设有刀槽,所述柔性盘面上设有通孔,所述通孔与所述真空吸附机构连通,所述柔性盘面内设有所述加热机构。
优选地,所述真空吸附机构采用真空发生器。
优选地,所述加热机构采用半导体加热片。
优选地,所述驱动机构包括螺杆,所述螺杆可转动地设置于所述机架上,所述螺杆的上部配合设有升降螺母,所述升降螺母通过连接杆与所述上台盘连接,所述螺杆的底端固定有从动齿轮,所述从动齿轮与主动齿轮啮合,所述主动齿轮与驱动电机的动力输出端传动连接。
优选地,所述上台盘的边缘设有切刀,所述切刀与所述刀槽相配合。
本发明相对于现有技术取得了以下有益技术效果:
本发明提供的一种表面带球的晶圆倒膜设备,包括机架,所述机架的两端设有胶带输送机构,所述胶带输送机构的中部设有下台盘,所述下台盘上设有真空吸附机构和加热机构,所述下台盘的上方通过驱动机构设置有上台盘;通过设置胶带输送机构,能够连续不断地进行TAPE的输送,晶圆与TAPE在下台盘和上台盘的作用下倒膜,使凸点贴合在TAPE上,晶圆背面朝上使用,很好的解决了因凸点导致不能贴合的问题及IC错位的问题。
附图说明
为了更清楚地说明本发明实施例或现有技术中的技术方案,下面将对实施例中所需要使用的附图作简单地介绍,显而易见地,下面描述中的附图仅仅是本发明的一些实施例,对于本领域普通技术人员来讲,在不付出创造性劳动性的前提下,还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1为本发明提供的一种表面带球的晶圆倒膜设备结构示意图;
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造