[发明专利]电芯包膜设备

权利要求书

1.一种电芯包膜设备，其特征在于，包括：机架及均设于所述机架上的膜片供料装置、底托供料装置、膜片底托输送装置、底托膜片热熔装置、膜片底托中转移送装置、电芯上料移送装置、旋转移送装置、下热熔装置、翻折包覆装置、上热熔装置、侧面弯折抚平装置、侧面热熔装置、下料移送装置和贴胶装置，

所述旋转输送装置的圆周输送方向上顺次分布有膜片底托接料工位、电芯接料工位、下热熔工位、包覆工位、上热熔工位、侧面抚平工位、侧面热熔工位和下料工位，

所述膜片供料装置将所储存的膜片输出至所述膜片底托输送装置上，所述底托供料装置将所储存的底托输出至所述膜片底托输送装置上的所述膜片上；

所述膜片底托输送装置将所述膜片及所述底托输送至所述底托膜片热熔装置上，所述底托膜片热熔装置将所述底托热熔固定于对应的所述膜片上；

所述膜片底托中转移送装置将热熔固定后的所述底托及所述膜片移送至所述旋转输送装置的所述膜片底托接料工位上，所述电芯上料移送装置将电芯移送至所述旋转输送装置的所电芯接料工位上，且所述电芯叠放于所述膜片上；

所述旋转输送装置于所述膜片底托接料工位上承接所述膜片及所述底托，于所述电芯接料工位承接所述电芯，再顺次输于所述下热熔工位、所述包覆工位、所述上热熔工位、所述侧面抚平工位、所述侧面热熔工位及所述下料工位上；

所述下热熔装置位于所述下热熔工位，所述下热熔装置将位于所述下热熔工位上的所述膜片热熔固定于所述电芯的底部；

所述翻折包覆装置位于所述包覆工位，所述翻折包覆装置将位于所述包覆工位上的所述膜片翻转包覆至所述电芯的顶部；

所述上热熔装置位于所述上热熔工位，所述上热熔装置将位于所述上热熔工位上的所述膜片热熔固定于所述电芯的顶部；

所述侧面弯折抚平装置位于所述侧面抚平工位，所述侧面弯折抚平装置将位于所述侧面抚平工位上的所述膜片弯折抚平包覆于所述电芯的竖直侧面上；

所述侧面热熔装置位于所述侧面热熔工位，所述侧面热熔装置将位于所述侧面热熔工位上的所述膜片热熔固定于所述电芯的竖直侧面上；

所述下料移送装置位于所述下料工位与所述贴胶装置之间，所述下料移送装置将位于所述下料工位上的包覆有所述底托及所述膜片的电芯移送至所述贴胶装置上，所述贴胶装置将胶带贴置于所述电芯上包覆的所述膜片的相邻两竖直侧面上。

2.如权利要求1所述的电芯包膜设备，其特征在于，所述膜片供料装置包括：膜片供料安装架、膜片供料取送机械手、两膜片储料台及与两所述膜片储料台一一对应的膜片平移驱动机构，

所述膜片供料安装架固定于所述机架上，所述膜片供料安装架上沿一水平方向呈间隔开的分布有膜片取料位置及膜片避让位置；

两所述膜片储料台呈一上一下的移动于所述膜片取料位置与所述膜片避让位置之间；

两所述膜片平移驱动机构均设于所述膜片供料安装架上，两所述膜片储料台一一对应的传动连接于两所述膜片平移驱动机构的输出端；

所述膜片供料取送机械手设于所述机架上，所述膜片供料取送机械手将移动至所述膜片取料位置的所述膜片储料台上所承载的膜片移送至所述膜片底托输送装置上；

所述底托供料装置包括：底托供料安装架、底托供料取送机械手、储料平移板、底托平移驱动机构及两升降式底托储料机构，

所述底托供料安装架固定于所述机架上，所述底托供料安装架分布有底托取料位置；

所述储料平移板沿一水平方向移动设于所述底托供料安装架上，所述底托平移驱动机构设于所述底托供料安装架上，所述储料平移板传动连接于所述底托平移驱动机构的输出端；

两所述升降式底托储料机构均设于所述储料平移板上，且两所述升降式底托储料机构沿所述储料平移板的移动方向并排排布，两所述升降式底托储料机构可交替移动至所述底托取料位置；

所述底托供料取送机械手设于所述机架上，所述底托供料取送机械手将移动至所述底托取料位置的所述升降式底托储料机构上所承载的底托移送至承载于所述膜片底托输送装置的所述膜片上。