[发明专利]一种微球制备装置及应用在审
| 申请号: | 202310537517.3 | 申请日: | 2023-05-12 |
| 公开(公告)号: | CN116273234A | 公开(公告)日: | 2023-06-23 |
| 发明(设计)人: | 张华 | 申请(专利权)人: | 苏州矽劼微电子有限公司 |
| 主分类号: | B01L3/00 | 分类号: | B01L3/00;A61K9/16 |
| 代理公司: | 北京品源专利代理有限公司 11332 | 代理人: | 赵颖 |
| 地址: | 215000 江苏省苏州市*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 制备 装置 应用 | ||
1.一种微球制备装置,其特征在于,沿微球挤出的方向,所述微球制备装置包括依次设置的驱动液体结构与微孔阵列,所述驱动液体结构与微孔阵列之间包围形成液体流道分配腔体;
所述驱动液体结构设置有压电薄膜层,用于进行机械移动挤压所述液体流道分配腔体。
2.根据权利要求1所述的微球制备装置,其特征在于,所述微孔阵列的微孔形状包括圆形或多边形;
优选地,所述多边形包括四边形、六边形或八边形中的任意一种;
优选地,所述微孔阵列的圆形微孔的直径为2-50μm;
优选地,所述微孔阵列的多边形微孔的外接圆直径为2-50μm。
3.根据权利要求1或2所述的微球制备装置,其特征在于,所述微孔阵列的厚度为15-400μm;
优选地,所述微孔阵列的材质包括石英玻璃和/或钠钾玻璃。
4.根据权利要求1-3任一项所述的微球制备装置,其特征在于,所述微孔阵列的表面设置有涂层;
优选地,所述涂层的厚度为0.001-10μm;
优选地,所述涂层的材质包括金属氧化物、氮化物或长链碳氟化合物中的任意一种或至少两种的组合;
优选地,所述金属氧化物包括氧化铝陶瓷;
优选地,所述氮化物包括氮化硅陶瓷和/或氮化铝陶瓷;
优选地,所述长链碳氟化合物包括聚四氟乙烯和/或1H,1H,2H,2H-全氟癸基三氯硅烷。
5.根据权利要求1-4任一项所述的微球制备装置,其特征在于,沿远离所述微孔阵列的方向,所述驱动液体结构包括依次设置的硅衬底材料、第一氧化硅层、中间层、第二氧化硅层、第一导电层、压电薄膜层以及第二导电层,所述第一导电层与第二导电层还分别独立地连接第三导电层。
6.根据权利要求5所述的微球制备装置,其特征在于,所述硅衬底材料与所述微孔阵列的结合方式包括键合和/或粘合;
优选地,所述硅衬底材料的厚度为20-1000μm,优选为200-600μm;
优选地,所述第一氧化硅层与第二氧化硅层的厚度分别为100-1000nm。
7.根据权利要求5或6所述的微球制备装置,其特征在于,所述第一导电层、第二导电层以及第三导电层的厚度分别为10-500nm;
优选地,所述第一导电层与第二导电层的材质包括铂;
优选地,所述第三导电层的材质包括金和/或铝。
8.根据权利要求5-7任一项所述的微球制备装置,其特征在于,所述中间层的厚度为500-5000nm;
优选地,所述中间层的材质包括硅质材料、不锈钢、锰钢、石英或金刚石中的任意一种。
9.根据权利要求8所述的微球制备装置,其特征在于,所述压电薄膜层的厚度为500-10000nm;
优选地,所述压电薄膜层包括锆钛酸铅薄膜或无铅压电薄膜;
优选地,所述压电薄膜层与中间层的形状分别包括圆形、椭圆形、矩形、六边形、十字形、回字形或风车形中的任意一种。
10.一种如权利要求1-9任一项所述的微球制备装置的应用,其特征在于,所述微球制备装置用于药物微球制备、雾化装置或数字定量检测中。
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