[发明专利]一种复合型耐磨损超疏水硅橡胶表面及其制备方法在审
申请号: | 202310458893.3 | 申请日: | 2023-04-21 |
公开(公告)号: | CN116426023A | 公开(公告)日: | 2023-07-14 |
发明(设计)人: | 陈列;黄宫淇;田雨阳;李唐浩;李倩靓;刘顿 | 申请(专利权)人: | 湖北工业大学 |
主分类号: | C08J7/12 | 分类号: | C08J7/12;C08L83/04 |
代理公司: | 武汉科皓知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 42222 | 代理人: | 詹艺 |
地址: | 430068 湖*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 复合型 耐磨 疏水 硅橡胶 表面 及其 制备 方法 | ||
1.一种复合型耐磨损超疏水硅橡胶表面,包括硅橡胶基材(1)及二氧化硅(2),其特征在于:硅橡胶基材(1)的表面包括疏水的粗糙微观结构与坑槽;坑槽内部由二氧化硅(2)进行填充,用于在机械磨损过程中提供支撑与保护;二氧化硅(2)与硅橡胶基材(1)的接触面通过粘合剂粘接,二氧化硅(2)表面涂布有硅烷偶联剂,用于降低表面能以提升二氧化硅(2)表面的疏水性。
2.根据权利要求1所述的复合型耐磨损超疏水硅橡胶表面,其特征在于:所述坑槽的总面积占硅橡胶表面总面积的比例为10%~60%;所述坑槽为圆形坑槽,单个圆形坑槽的直径为20~800μm。
3.一种如权利要求1所述的复合型耐磨损超疏水硅橡胶表面的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
S1、去除硅橡胶基材的杂质,得到除杂基材;
S2、通过激光刻蚀在除杂基材表面构建微观结构,得到粗糙表面;
S3、通过激光刻蚀对粗糙表面进行处理,在粗糙表面形成坑槽,得到刻蚀基材;
S4、采用粘合剂对刻蚀基材进行处理,使粘合剂附着于坑槽表面,得到预反应基材;
S5、采用硅反应溶液对预反应基材进行处理,处理后去除预反应基材坑槽内部以外的二氧化硅,使预反应基材的坑槽由二氧化硅填充,得到负硅基材;
S6、通过激光刻蚀对负硅基材表面进行处理,得到超疏水基材;
S7、采用硅烷偶联剂对超疏水基材的表面进行处理,得到复合型耐磨损超疏水硅橡胶表面。
4.根据权利要求3所述的制备方法,其特征在于:所述S2中,所述激光刻蚀为采用脉冲激光进行面扫描,面扫描的激光能量密度为4~25J/cm2,扫描速度为500~2000mm/s。
5.根据权利要求3所述的制备方法,其特征在于:所述S3中,所述激光刻蚀为采用脉冲激光进行列阵扫描,列阵扫描的激光能量密度为8~30J/cm2,扫描速度为300~1500mm/s,扫描次数为5~20次。
6.根据权利要求3所述的制备方法,其特征在于:所述S4中,所述粘合剂采用聚二烯二甲基氯化铵水溶液,其质量百分比浓度为4%~20%;所述处理为将刻蚀基材浸于聚二烯二甲基氯化铵水溶液中,使粘合剂充满坑槽,随后取出并在40~200℃烘干1~12h。
7.根据权利要求3所述的制备方法,其特征在于:所述S5中,所述硅反应溶液为去离子水、正硅酸乙酯、氨水、无水乙醇形成的混合物,其中去离子水、正硅酸乙酯、氨水为溶质,无水乙醇为溶剂,去离子水的摩尔浓度为0.5~17.0mol/L,正硅酸乙酯的摩尔浓度为0.1~0.5mol/L,氨水中的氨气所占混合物的摩尔浓度为0.1~3.0mol/L。
8.根据权利要求3所述的制备方法,其特征在于:所述S6中,所述激光刻蚀为采用脉冲激光进行面扫描,面扫描的激光能量密度为4~25J/cm2,扫描速度为200~2000mm/s。
9.根据权利要求4、5、8任一项所述的制备方法,其特征在于:所述脉冲激光的中心波长为200~2000nm,所述脉冲激光的脉宽为100fs~50μs。
10.根据权利要求3所述的制备方法,其特征在于:所述S7中,所述硅烷偶联剂为六甲基二硅氮烷、十八烷基三氯硅烷、丙基三甲氧基硅烷、3-氨丙基三乙氧基硅烷、3-缩水甘油基氧基丙基三甲氧基硅烷中的至少一种;所述处理为将硅烷偶联剂涂布于超疏水基材表面,涂布量为150~450g/m2。
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