[发明专利]一种新拟态绘制方法、装置、电子设备及可读存储介质在审
| 申请号: | 202310453550.8 | 申请日: | 2023-04-25 |
| 公开(公告)号: | CN116483359A | 公开(公告)日: | 2023-07-25 |
| 发明(设计)人: | 文圳;叶松林 | 申请(专利权)人: | 成都赛力斯科技有限公司 |
| 主分类号: | G06F8/38 | 分类号: | G06F8/38;G06F8/36;G06F8/30;G06T11/40;G06T11/60 |
| 代理公司: | 北京嘉科知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 11687 | 代理人: | 杨波 |
| 地址: | 610095 四川省成都市中国(四川)自由贸易*** | 国省代码: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 拟态 绘制 方法 装置 电子设备 可读 存储 介质 | ||
1.一种新拟态绘制方法,其特征在于,包括:
获取目标控件的新拟态属性参数;所述新拟态属性参数包括光源位置、光源颜色、阴影面积、阴影形状、阴影颜色、阴影偏移;
根据所述新拟态属性参数,调用亮色阴影创建方法创建亮色阴影可绘制对象,调用暗色阴影创建方法创建暗色阴影可绘制对象;
根据所述阴影偏移,调用混合绘制方法,将所述亮色阴影可绘制对象和所述暗色阴影可绘制对象绘制到同一个背景图层;
调用控件重绘方法,将所述背景图层作为背景更新于所述目标控件的图标界面的下层。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,根据所述阴影偏移,调用混合绘制方法,将所述亮色阴影可绘制对象和所述暗色阴影可绘制对象绘制到同一个背景图层之后,调用控件重绘方法,将所述背景图层作为背景更新于所述目标控件的图标界面的下层之前,还包括:
对所述背景图层上的所述亮色阴影可绘制对象与所述暗色阴影可绘制对象的图像进行模糊处理。
3.根据权利要求2所述的方法,其特征在于,对所述背景图层上的所述亮色阴影可绘制对象与所述暗色阴影可绘制对象的图像进行模糊处理的过程,包括:
采用图片处理框架或应用端栈算法,对所述背景图层上的所述亮色阴影可绘制对象与所述暗色阴影可绘制对象的图像进行模糊处理。
4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,创建的所述亮色阴影可绘制对象和所述暗色阴影可绘制对象的对象类型均为渐变可绘制对象。
5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,调用控件重绘方法,将所述背景图层作为背景更新于所述目标控件的图标界面的下层的过程,包括:
调用自行无效函数,将所述背景图层作为背景更新于所述目标控件的图标界面的下层。
6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,所述获取目标控件的新拟态属性参数的过程,包括:
获取用户指定样式;所述用户指定样式为日间样式、夜间样式、护眼样式或预设个性化样式;
获取目标控件对应所述用户指定样式的新拟态属性参数。
7.根据权利要求1至6中任一项所述的方法,其特征在于,根据所述阴影偏移,调用混合绘制方法,将所述亮色阴影可绘制对象和所述暗色阴影可绘制对象绘制到同一个背景图层的过程,包括:
调用位图对象创建函数生成一个空的位图对象;
创建画布对象,将所述位图对象作为输入参数生成画布实例并保存画布状态;
根据所述阴影偏移确定所述目标控件与所述亮色阴影可绘制对象的第一位置关系,并根据所述第一位置关系调用偏移函数偏移所述画布实例的位置,然后获取所述亮色阴影可绘制对象并对所述亮色阴影可绘制对象调用绘制方法,再恢复所述画布状态,以完成对所述亮色阴影可绘制对象的绘制;
根据所述阴影偏移确定所述目标控件与所述暗色阴影可绘制对象的第二位置关系,并根据所述第二位置关系调用偏移函数偏移所述画布实例的位置,然后获取所述暗色阴影可绘制对象并对所述暗色阴影可绘制对象调用绘制方法,再恢复所述画布状态,以完成对所述暗色阴影可绘制对象的绘制;
根据当前的所述画布状态输出相应的所述位图对象作为背景图层。
8.一种新拟态绘制装置,其特征在于,包括:
获取模块,用于获取目标控件的新拟态属性参数;所述新拟态属性参数包括光源位置、光源颜色、阴影面积、阴影形状、阴影颜色、阴影偏移;
创建模块,用于根据所述新拟态属性参数,调用亮色阴影创建方法创建亮色阴影可绘制对象,调用暗色阴影创建方法创建暗色阴影可绘制对象;
绘制模块,用于根据所述阴影偏移,调用混合绘制方法,将所述亮色阴影可绘制对象和所述暗色阴影可绘制对象绘制到同一个背景图层;
更新模块,用于调用控件重绘方法,将所述背景图层作为背景更新于所述目标控件的图标界面的下层。
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