[发明专利]一种基于双折射光谱滤波的高重复频率单腔双光学频率梳

权利要求书

1.一种基于双折射光谱滤波的高重复频率单腔双光学频率梳，其特征在于，包括半导体可饱和吸收镜(1)、介质膜(7)、第一插芯(2)、第二插芯(6)、第三插芯(9)、陶瓷套管(8)、无源光纤(3)、增益光纤(5)、第一偏振控制器(4)、第二偏振控制器(10)、波分复用器(11)、隔离器(12)、泵浦源(13)；所述增益光纤(5)与无源光纤(3)熔接，增益光纤(5)穿过第一偏振控制器(4)设置在第二插芯(6)上，无源光纤(3)设置在第一插芯(2)上；半导体可饱和吸收镜(1)设置在第一插芯(2)的端面上，介质膜(7)设置在第二插芯(6)的端面上并介于第二插芯(6)和第三插芯(9)之间，第二插芯(6)和第三插芯(9)通过陶瓷套管(8)连接；所述第二偏振控制器(10)设置在第三插芯(9)和波分复用器(11)的公共端之间，波分复用器(11)的泵浦端和信号端分别与泵浦源(13)和隔离器(12)连接。

2.根据权利要求1所述的一种基于双折射光谱滤波的高重复频率单腔双光学频率梳，其特征在于，所述无源光纤(3)具有比增益光纤(5)更小的模场直径。

3.根据权利要求1所述的一种基于双折射光谱滤波的高重复频率单腔双光学频率梳，其特征在于，所述增益光纤(5)为保偏光纤，其双折射系数大于10^-4。

4.根据权利要求1所述的一种基于双折射光谱滤波的高重复频率单腔双光学频率梳，其特征在于，所述第一插芯(2)、第二插芯(6)和第三插芯(9)表面均需做垂直抛光处理。

5.根据权利要求1所述的一种基于双折射光谱滤波的高重复频率单腔双光学频率梳，其特征在于，所述半导体可饱和吸收镜(1)的调制深度为1％至30％。

6.根据权利要求1所述的一种基于双折射光谱滤波的高重复频率单腔双光学频率梳，其特征在于，所述介质膜(7)对信号光的反射率大于70％，对泵浦光的透射率大于70％。

7.根据权利要求1所述的一种基于双折射光谱滤波的高重复频率单腔双光学频率梳，其特征在于，所述无源光纤(3)和增益光纤(5)的长度之和为1厘米至10厘米，以实现大于1GHz的高重复频率锁模输出。

8.根据权利要求1所述的一种基于双折射光谱滤波的高重复频率单腔双光学频率梳，其特征在于，所述增益光纤(5)为稀土离子掺杂光纤，掺杂的稀土离子包括铒、镱、铥和钬的一种或几种。

9.根据权利要求1～8任一项所述的一种基于双折射光谱滤波的高重复频率单腔双光学频率梳，其特征在于，所述第一偏振控制器(4)和第二偏振控制器(10)均为挤压式偏振控制器，其中第一偏振控制器(4)调节谐振腔内光的偏振态，第二偏振控制器(10)调节谐振腔外光的偏振态。

10.根据权利要求9所述的一种基于双折射光谱滤波的高重复频率单腔双光学频率梳，其特征在于，所述泵浦源(13)为单模半导体激光器。