[发明专利]HCFC－132的制造方法以及分离方法和HCFO－1122a的制造方法在审
| 申请号： | 202310432291.0 | 申请日： | 2018-07-04 |
| 公开（公告）号： | CN116462565A | 公开（公告）日： | 2023-07-21 |
| 发明（设计）人： | 臼井隆;加留部大辅 | 申请（专利权）人： | 大金工业株式会社 |
| 主分类号： | C07C17/23 | 分类号： | C07C17/23;C07C19/12;C07C21/18;C07C17/25;C07C17/383;C09K5/04 |
| 代理公司： | 北京尚诚知识产权代理有限公司 11322 | 代理人： | 龙淳;狄茜 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | hcfc 132 制造 方法 以及 分离 hcfo 1122 | ||
1.一种HCFC－132的制造方法，其特征在于，包括：
将通式(1)：CFClX－CFClX所示的卤代乙烷在还原剂的存在下还原而生成1,2－二氯－1,2－二氟乙烷(HCFC－132)的工序，式(1)中，X分别独立地为Cl、Br、I或H，其中，X中的至少一个为Cl、Br或I。
2.如权利要求1所述的制造方法，其特征在于：
所述还原剂为甲酸盐。
3.如权利要求1或2所述的制造方法，其特征在于：
在20℃～100℃的范围内进行所述还原的工序。
4.如权利要求1～3中任一项所述的制造方法，其特征在于：
所述通式(1)所示的卤代乙烷为1,1,2,2－四氯－1,2－二氟乙烷(CFC－112)。
5.一种HCFO－1122a的制造方法，其特征在于，包括：
(i)将通式(1)：CFClX－CFClX所示的卤代乙烷在还原剂的存在下还原而生成含有HCFC－132的混合物的工序，式(1)中，X分别独立地为Cl、Br、I或H，其中，X中的至少一个为Cl、Br或I；和
(ii)将在所述工序(i)生成的混合物中的HCFC－132在碱的存在下进行脱盐酸反应而生成1－氯－1,2－二氟乙烯(HCFO－1122a)的工序。
6.如权利要求5所述的HCFO－1122a的制造方法，其特征在于：
在所述工序(i)与所述工序(ii)之间，还包括从所述混合物中分离HCFC－132的工序，将该HCFC－132提供至所述工序(ii)。
7.一种HCFC－132的分离方法，其特征在于：
在加压下分离HCFC－132和沸点－10℃以下的混合物。
8.如权利要求7所述的分离方法，其特征在于：
进行加压的压力为0.01～2.0MPa。
9.如权利要求7或8所述的分离方法，其特征在于：
所述沸点－10℃以下的混合物含有选自CO2、N2、HCFO－1122a和2－氯－1,1－二氟乙烯(HCFC－1122)中的至少一种。
10.一种组合物，其特征在于，含有：
HCFC－132，和
选自1,1,2－三氯－1,2－二氟乙烷(HCFC－122a)、1,2－二氯－1,1－二氟乙烷(HCFC－132b)和1,1－二氯－2,2－二氟乙烷(HCFC－132a)中的至少一种化合物。
11.一种组合物，其特征在于，含有：
HCFO－1122a，和
选自HCFC－132、HCFC－1122和1,2－二氯－1,2－二氟乙烯(CFC－1112)中的至少一种化合物。
12.如权利要求11所述的组合物，其特征在于：
所述组合物为冷媒组合物。
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