[发明专利]用于隔离器、层流设备的回风结构

说明书

本发明公开了用于隔离器、层流设备的回风结构，包括：房间，所述房间为密闭结构，且房间包括第一吊顶和设置在所述第一吊顶上方的第二吊顶，所述第一吊顶和第二吊顶之间形成第一导流腔，所述房间至少一个侧壁内设有第二导流腔，所述第一导流腔和第二导流腔连通，设有第二导流腔的侧壁底部开设有回风口，所述房间内的上部设有隔离腔，所述隔离腔的顶部与所述第一导流腔连通；所述隔离腔用于安装隔离器、层流设备。

技术领域

本发明涉及洁净车间技术领域，更具体的说是涉及用于隔离器、层流设备的回风结构。

背景技术

隔离器、层流常用于电子半导体、食品加工、生物制药等行业的生产环境中、作为关键重要设备，保护工艺核心区域，高风险操作区。如罐装区、放置胶塞桶和无菌制剂直接接触的敞口包装容器的区域及无菌装配和连接操作的区域，该区域必须均匀送风，风速为0.45m/s，不均匀度不超过±20％。

现有技术中，隔离器、层流设备直接布置在房间中，隔离器、层流的进风来自于自身侧面进风口。隔离器、层流进风口的位置，决定了气流的扰动；进风来自自身侧面的时候，设备进风口的位置是位于房间内顶部，进风口形成了相对负压，背景房间的气流则由下而上，影响整个层流背景气流，向相反方向发展，同时由于气流的扰动，对层流边沿区域单向流的效果产生很大的反方向影响。

发明内容

本发明的目的在于提供用于隔离器、层流设备的回风结构，以期解决背景技术中的技术问题。

为了实现上述目的，本发明采用以下技术方案：

用于隔离器、层流设备的回风结构，包括：房间，所述房间为密闭结构，且房间包括第一吊顶和设置在所述第一吊顶上方的第二吊顶，所述第一吊顶和第二吊顶之间形成第一导流腔，所述房间至少一个侧壁内设有第二导流腔，所述第一导流腔和第二导流腔连通，设有第二导流腔的侧壁底部开设有回风口，所述房间内的上部设有隔离腔，所述隔离腔的顶部与所述第一导流腔连通；所述隔离腔用于安装隔离器、层流设备。

在一些实施例中，所述第一吊顶在隔离腔以外的位置上设有出风口。

在一些实施例中，所述出风口设有第一过滤器。

在一些实施例中，所述回风口设有第二过滤器。

在一些实施例中，所述第一隔离腔和第二隔离腔之间设有第三过滤器。

在一些实施例中，所述隔离腔位于房间的侧部，且靠墙设置。

本发明与现有技术相比具有的有益效果是：

取消侧面进风方式，减少了设备取风对背景环境以及自身边沿气流的影响，使工艺生产处于一个更加标准的环境中。

附图说明

图1为本申请提供的高精度温室回风用回风系统的示意图。

图示说明：

1-隔离器、层流设备，2-隔离腔，3-第一导流腔，4-第二吊顶，5-第一过滤器，6-第三过滤器，7-第二导流腔，8-房间，9-第二过滤器，10-第一吊顶。

具体实施方式

为使本申请的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将结合本申请的优选实施例中的附图，对本申请实施例中的技术方案进行更加详细的描述。在附图中，自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的部件或具有相同或类似功能的部件。所描述的实施例是本申请一部分实施例，而不是全部的实施例。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，旨在用于解释本申请，而不能理解为对本申请的限制。基于本申请中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本申请保护的范围。

下面结合附图对本申请的实施例进行详细说明。