[发明专利]一种促进LED散热的PCB-氮化硼薄膜复合结构在审
| 申请号: | 202310380441.8 | 申请日: | 2023-04-11 |
| 公开(公告)号: | CN116321693A | 公开(公告)日: | 2023-06-23 |
| 发明(设计)人: | 王双钰;李宇波;杨杭生;汪小知;董梁 | 申请(专利权)人: | 浙江大学 |
| 主分类号: | H05K1/02 | 分类号: | H05K1/02;H01L33/64;C23C14/06 |
| 代理公司: | 杭州求是专利事务所有限公司 33200 | 代理人: | 林超 |
| 地址: | 310058 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 促进 led 散热 pcb 氮化 薄膜 复合 结构 | ||
1.一种促进LED散热的PCB-氮化硼薄膜复合结构,其特征在于,包括PCB板(1)、六方氮化硼薄膜(2)、待散热LED芯片和导热胶(8),PCB板(1)上沉积有六方氮化硼薄膜(2),六方氮化硼薄膜(2)上通过导热胶(8)固定安装有待散热LED芯片,待散热LED芯片与PCB板(1)之间电连接。
2.根据权利要求1所述的一种促进LED散热的PCB-氮化硼薄膜复合结构,其特征在于,所述六方氮化硼薄膜(2)的形状与厚度根据LED散热方向、路径以及面积计算获得。
3.根据权利要求1所述的一种促进LED散热的PCB-氮化硼薄膜复合结构,其特征在于,所述六方氮化硼薄膜(2)是通过物理气相沉积法沉积在PCB板(1)上,具体包括以下步骤:
1)清洁PCB板(1)的表面,接着将金属掩模版固定在已表面清洁的PCB板(1)表面后送入真空度为10-3Pa的反应室;
2)向反应室通入保护气体氩气,调节反应室压强至0.1-1Pa,使得反应室中产等离子体;
3)控制PCB板(1)的偏压在-300―-500V范围内,再以物理气相沉积法在PCB板(1)上进行六方氮化硼薄膜的沉积。
4.根据权利要求3所述的一种促进LED散热的PCB-氮化硼薄膜复合结构,其特征在于,所述金属掩模版的材料为铜、不锈钢、钼中的一种。
5.根据权利要求3所述的一种促进LED散热的PCB-氮化硼薄膜复合结构,其特征在于,所述金属掩模版的图案根据PCB板(1)的尺寸、PCB板上可供六方氮化硼薄膜(2)沉积的区域、LED芯片散热需求进行设置。
6.根据权利要求3所述的一种促进LED散热的PCB-氮化硼薄膜复合结构,其特征在于,所述金属掩模版的厚度为0.3mm。
7.根据权利要求1所述的一种促进LED散热的PCB-氮化硼薄膜复合结构,其特征在于,所述六方氮化硼薄膜(2)的六方氮化硼含量为95%以上。
8.根据权利要求1所述的一种促进LED散热的PCB-氮化硼薄膜复合结构,其特征在于,所述待散热LED芯片替换为安装有电容、电阻或电感的在使用过程会发热的芯片。
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