[发明专利]一种硅片自动化传输机构及硅片走位异常处理方法

说明书

本发明提供了一种硅片自动化传输机构及硅片走位异常处理方法，涉及太阳能电池技术领域，其硅片自动化传输机构包括：传输装置，用于输送硅片；托片装置，设置在传输装置的外侧并用于将硅片从传输装置上托起；检测装置，设置在传输装置的内侧并用于检测硅片在传输装置上的姿态；调节装置，设置在传输装置的一侧并用于调整硅片在传输装置上的姿态；控制器，控制器分别与传输装置、托片装置、检测装置以及调节装置电连接。本发明中的硅片自动化传输机构能够降低硅片在湿化学及板式镀膜工序中的隐裂风险，同时提高成品质量。

技术领域

本发明涉及太阳能电池技术领域，具体而言，涉及一种硅片自动化传输机构及硅片走位异常处理方法。

背景技术

电池片是太阳能光伏组件的重要组成部件，通常是将硅片采用湿化学及板式镀膜等工序加工而成。随着新能源行业的迅猛发展，降低硅片成本已成为相关光伏企业的重要目标，硅片减薄则是实现这一目标的第一选择，硅片极限减薄带来的硅片成本快速下降的同时，减薄硅片对电池制程自动化的兼容型也越来越高，因此，减薄硅片得到了广泛的应用。

在湿化学及板式镀膜工序中，硅片通常采用传输皮带输送，硅片在传输皮带与硅片之间通过摩擦力带动向前移动，进入花篮或者到达某个位置停止后，先由定位托块将其从传输皮带上托起，再由摆放吸盘将硅片吸起后摆放至模具框内。但是受硅片减薄的影响，硅片在传输过程中容易出现打滑现象，导致硅片走位异常甚至追尾堵片，当定位托块将硅片从传输皮带上托起后，摆放吸盘再从定位托块上将硅片吸起时，不仅硅片隐裂风险极大，而且后续硅片无法完全放入模具框内，导致硅片在模具框上的部分无法正常镀膜，影响成品质量。

发明内容

本发明解决的技术问题是如何降低硅片在湿化学及板式镀膜工序中的隐裂风险，同时提高成品质量。

为解决上述技术问题，本发明的实施例提供一种硅片自动化传输机构，包括：

传输装置，用于输送硅片；

托片装置，设置在所述传输装置的外侧并用于将所述硅片从所述传输装置上托起；

检测装置，设置在所述传输装置的内侧并用于检测所述硅片在所述传输装置上的姿态；

调节装置，设置在所述传输装置的一侧并用于调整所述硅片在所述传输装置上的姿态；

控制器，所述控制器分别与所述传输装置、所述托片装置、所述检测装置以及所述调节装置电连接。

可选地，所述托片装置包括多个托片单元，多个所述托片单元沿所述传输装置的输送方向间隔设置。

可选地，每个所述托片单元包括两个定位托块，两个所述定位托块相对设置，且于垂直于所述传输装置的输送方向上，一个所述定位托块设置在所述传输装置的一侧，另一个所述定位托块设置在所述传输装置的相对的另一侧。

可选地，所述检测装置包括多个纵向检测传感器，多个所述纵向检测传感器沿所述传输装置的输送方向间隔设置。

可选地，一个所述托片单元匹配N个所述纵向检测传感器，且N＝(L/d)+1,其中，L为相邻所述托片单元之间的间距，d为所述托片单元的兼容公差精度。

可选地，所述调节装置包括顶升结构，所述顶升结构设置在所述传输装置的外侧并用于调整所述硅片在所述传输装置上的姿态。

可选地，一个所述定位托块对应至少一个所述顶升结构，每个所述顶升结构用于单独完成升降、纵移以及横移中的一个或多个动作。

可选地，所述纵向检测传感器包括堵片传感器，于所述传输装置的传输方向上，所述堵片传感器设置在所述硅片的标准姿态后侧的预设距离处并用于检测所述硅片是否堵片。

可选地，所述预设距离等于相邻所述托片单元之间的间距。