[发明专利]一种适用于磁铁自动推料、搬运取放及有序排列设备在审
| 申请号: | 202310305167.8 | 申请日: | 2023-03-24 |
| 公开(公告)号: | CN116177192A | 公开(公告)日: | 2023-05-30 |
| 发明(设计)人: | 周保平;高昀兴;李泽江;马春茹 | 申请(专利权)人: | 包头市英思特稀磁新材料股份有限公司 |
| 主分类号: | B65G47/88 | 分类号: | B65G47/88;B65G47/82;B65G47/26;B65G47/92;B65G43/08;B65G65/44 |
| 代理公司: | 北京细软智谷知识产权代理有限责任公司 11471 | 代理人: | 韩娇 |
| 地址: | 014000 内蒙古自治区包头市包头稀土高新*** | 国省代码: | 内蒙古;15 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 适用于 磁铁 自动 搬运 有序 排列 设备 | ||
本发明提供了一种适用于磁铁自动推料、搬运取放及有序排列设备,包括机架,至少一组设置在机架上且沿磁铁传输方向依次设置的推料机构、搬运取放机构和放料机构,以及控制器;推料机构、搬运取放机构和放料机构分别与控制器电性连接;推料机构用于将单磁铁与磁铁组合体分离且沿Y轴方向推出至搬运取放机构的取料位;搬运取放机构用于吸附位于取料位的单磁铁并将其规律排布至放料机构上;本发明通过推料机构将单磁铁与磁铁组合体分离且沿Y轴方向推出至搬运取放机构的取料位,搬运取放机构吸附位于取料位的单磁铁并将其规律排布至放料机构上,实现磁铁自动化推料、搬运取放及有序排列工序,精准度和稳定性高,生产效率高,生产成本低,实用性高。
技术领域
本发明涉及磁铁生产技术领域,尤其是涉及一种适用于磁铁自动推料、搬运取放及有序排列设备;
背景技术
目前,磁铁生产过程中,需要将由若干磁铁相互吸附形成的磁铁组合体分离,然后再通过人工手工向前移动治具铁板,手动搬动手阀使气缸伸出及缩回,将单个磁铁依次摆放在治具铁板上,以备后续工序组装。
本申请人发现现有技术至少存在以下技术问题:由于薄磁铁的厚度在0.3mm--1mm之间,容易出现多个待推动的磁铁不在一个平面内,造成推料过程卡料,需要人工手动调整,精准度低,费事费力,生产效率低,影响后续工序正常运行。
有鉴于此,特提出本发明。
发明内容
本发明的目的在于提供一种适用于磁铁自动推料、搬运取放及有序排列设备,解决了现有技术中存在的人工推料,精准度低,费事费力,生产效率低,影响后续工序正常运行的技术问题;本发明提供的诸多技术方案中的优选技术方案所能产生的诸多技术效果详见下文阐述。
为实现上述目的,本发明提供了以下技术方案:
本发明提供的一种适用于磁铁自动推料、搬运取放及有序排列设备,包括机架,设置在机架上且沿磁铁传输方向依次设置的推料机构、搬运取放机构和放料机构,以及控制器;所述推料机构、搬运取放机构和放料机构分别与控制器电性连接;所述推料机构、搬运取放机构和放料机构至少为两组且沿X轴方向排列;所述推料机构用于将单磁铁与磁铁组合体分离且沿Y轴方向推出至搬运取放机构的取料位;所述搬运取放机构用于吸附位于取料位的单磁铁并将其规律排布至放料机构上。
优选地,所述推料机构包括储料仓、推料板、第一吸附座、第一Y轴传输机构、推料气缸和第一吸附气缸;所述储料仓、推料板和第一吸附座沿Z轴方向自上至下依次设置;所述储料仓具有至少一组储料槽,所述储料仓具有至少一组储料槽,所述储料槽用于储存沿Z轴方向依次吸附叠放的磁铁组合体;所述储料仓远离放料机构一侧具有由沿Z轴方向自上至下依次连接的透明亚克力盖板和不锈钢盖板;所述推料板与第一Y轴传输机构滑动连接且通过推料气缸驱动,所述推料板上端面为镜面不锈钢盖板,所述推料板上端面为镜面不锈钢盖板,推料板上开设有与储料槽的出料口相对应的磁铁放置槽,所述磁铁放置槽的正投影面积覆盖储料槽的出料口的正投影面积,所述磁铁放置槽的深度大于单磁铁的厚度;所述储料槽上设有用于与控制器电性连接的磁铁没料报警传感器;所述第一吸附座通过沿Z轴方向运动的第一吸附气缸驱动,用于将位于储料仓最下端的单磁铁吸附至磁铁放置槽;
优选地,所述第一Y轴传输机构包括Y轴滑台和设置在Y轴滑台两侧的第一Y轴导轨,所述Y轴滑台与推料板固定连接且通过推料气缸驱动,用于带动推料板沿第一Y轴导轨往复运动;
优选地,所述搬运取放机构包括挡料分离座、第二吸附座、第二Y轴传输机构、第一Z轴传输机构、第二Z轴传输机构、分离提升气缸、第二吸附气缸和搬运气缸;所述挡料分离座与第一Z轴传输机构滑动连接且通过分离提升气缸驱动,所述第一Z轴传输机构与第二Y轴传输机构垂直连接;所述第二吸附座与第二Z轴传输机构滑动连接且通过第二吸附气缸驱动,用于吸附位于磁铁放置槽的单磁铁,所述挡料分离座的正投影面积和第二吸附座的正投影面积相重合且小于磁铁放置槽的正投影面积;当所述第二吸附座位于下限位时,所述第二吸附座的下端面与挡料分离座的上端面相抵触;
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