[发明专利]一种刻蚀辅助剂及其制备方法和应用方法在审

专利信息
申请号: 202310301123.8 申请日: 2023-03-24
公开(公告)号: CN116536050A 公开(公告)日: 2023-08-04
发明(设计)人: 陈加旺;贾锐;李星;李明辉;高志博 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: C09K13/02 分类号: C09K13/02;H01L21/306;H01L31/18
代理公司: 北京知迪知识产权代理有限公司 11628 代理人: 王胜利
地址: 100029 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 刻蚀 辅助剂 及其 制备 方法 应用
【权利要求书】:

1.一种刻蚀辅助剂,其特征在于,以质量百分比计,包括以下组分:

0.1-2.0wt%亚甲基双萘磺酸钠、0.1-2.0wt%绒面催化剂、0.005-0.05wt%脱泡剂、0.001-0.05wt%外观修饰剂、0.1-2.0wt%反应调节剂,余量为去离子水。

2.根据权利要求1所述的刻蚀辅助剂,其特征在于,以质量百分比计,包括以下组分:

0.5-1.0wt%亚甲基双萘磺酸钠、0.5-1.0wt%绒面催化剂、0.01-0.02wt%脱泡剂、0.01-0.03wt%外观修饰剂、0.8-1.2wt%反应调节剂,余量为去离子水。

3.根据权利要求1或2所述的刻蚀辅助剂,其特征在于,所述绒面催化剂为聚环氧琥珀酸、烷基糖苷、十二烷基硫酸钠或十二烷基苯磺酸钠中的一种。

4.根据权利要求1或2所述的刻蚀辅助剂,其特征在于,所述脱泡剂为环糊精、羟乙基纤维素、羟丙甲基纤维素、阿拉伯胶、瓜尔胶或黄原胶中的一种。

5.根据权利要求1或2所述的刻蚀辅助剂,其特征在于,所述反应调节剂为无机钠盐和/或有机钠盐;和/或,

所述外观修饰剂为高聚醇类物质或低聚醇醚类物质。

6.根据权利要求1或2所述的刻蚀辅助剂,其特征在于,所述高聚醇类物质为聚乙二醇200,聚乙二醇400,聚乙二醇600,聚乙二醇800或聚乙二醇1000;和/或,

所述低聚醇醚类物质为二乙二醇甲醚、二乙二醇丁醚、三缩乙二醇丁醚或四缩乙二醇丁醚。

7.根据权利要求6所述的刻蚀辅助剂,其特征在于,所述无机钠盐包括碳酸钠和/或硅酸钠;和/或,

所述有机钠盐包括三聚磷酸钠,柠檬酸钠,乳酸钠和酒石酸钠中的一种或两种。

8.一种权利要求1-7任一项所述的刻蚀辅助剂的制备方法,其特征在于,包括以下步骤:

将0.1-2.0wt%亚甲基双萘磺酸钠、0.1-2.0wt%绒面催化剂、0.005-0.05wt%脱泡剂、0.001-0.05wt%外观修饰剂、0.1-2.0wt%反应调节剂,依次加入去离子水中,所述刻蚀辅助剂中两相邻组分添加时间隔1-2min;在500-600rpm下搅拌得到所述刻蚀辅助剂。

9.一种权利要求1-7任一项所述的刻蚀辅助剂的应用方法,其特征在于,将所述刻蚀辅助剂加入到KOH溶液中,搅拌均匀制成刻蚀液;将单晶硅放入所述刻蚀液中刻蚀得到刻蚀后的单晶硅。

10.根据权利要求9所述的应用方法,其特征在于,所述刻蚀辅助剂和KOH溶液的质量比为(1.0-5.0):100;所述KOH溶液的浓度为0.5-2.0wt%;所述搅拌的速率为500-600rpm;

所述刻蚀在70-80℃条件下进行,所述刻蚀的时间为900-1500s。

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