[发明专利]发光渲染方法、装置、电子设备及计算机可读存储介质

权利要求书

1.一种发光渲染方法，其特征在于，所述方法包括：

获取待渲染对象的初始发光模型中各顶点在二维纹理坐标系下的目标纹理坐标对应的像素信息；

根据所述初始发光模型中各顶点在二维纹理坐标系下的目标纹理坐标对应的像素信息以及所述待渲染对象的目标发光区域，得到所述初始发光模型中各顶点的拉伸偏移信息；

根据所述初始发光模型中各顶点的拉伸偏移信息，对所述初始发光模型中各顶点进行拉伸偏移，得到目标发光模型；

根据所述初始发光模型中各顶点在二维纹理坐标系下的目标纹理坐标对应的像素信息，对所述目标发光模型进行像素着色，以渲染所述待渲染对象的发光特效。

2.如权利要求1所述的方法，其特征在于，所述根据所述初始发光模型中各顶点在二维纹理坐标系下的目标纹理坐标对应的像素信息以及所述待渲染对象的目标发光区域，得到所述初始发光模型中各顶点的拉伸偏移信息，包括：

根据所述初始发光模型中各顶点在二维纹理坐标系下的目标纹理坐标对应的像素信息，确定所述初始发光模型中各顶点的拉伸偏移方向；

根据所述初始发光模型中各顶点的拉伸偏移方向以及所述待渲染对象的目标发光区域，确定所述初始发光模型中各顶点的拉伸偏移距离；

根据所述初始发光模型中各顶点的拉伸偏移方向和拉伸偏移距离，得到所述初始发光模型中各顶点的拉伸偏移信息。

3.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述根据所述初始发光模型中各顶点在二维纹理坐标系下的目标纹理坐标对应的像素信息，确定所述初始发光模型中各顶点的拉伸偏移方向，包括：

根据所述初始发光模型中各顶点在二维纹理坐标系下的目标纹理坐标对应的像素信息，确定所述二维纹理坐标系下的参考纹理坐标；所述参考纹理坐标包括所述初始发光模型中负责所述发光特效中高亮部分的至少一个顶点在所述二维纹理坐标系下的纹理坐标；

根据所述初始发光模型中各顶点在二维纹理坐标系下的目标纹理坐标与所述参考纹理坐标的相对位置，确定所述初始发光模型中各顶点的拉伸偏移方向。

4.如权利要求3所述的方法，其特征在于，所述初始发光模型和所述待渲染对象为条状；所述根据所述初始发光模型中各顶点在二维纹理坐标系下的目标纹理坐标与所述参考纹理坐标的相对位置，确定所述初始发光模型中各顶点的拉伸偏移方向，包括：

根据所述初始发光模型中各顶点在二维纹理坐标系下的目标纹理坐标与所述参考纹理坐标的相对位置，确定所述初始发光模型中各顶点中的第一顶点和第二顶点；所述第一顶点和所述第二顶点基于所述参考纹理坐标对称；

将所述第一顶点在二维纹理坐标系下的目标纹理坐标远离所述参考纹理坐标的方向确定为所述第一顶点的拉伸偏移方向；

将所述第二顶点在二维纹理坐标系下的目标纹理坐标远离所述参考纹理坐标的方向确定为所述第二顶点的拉伸偏移方向。

5.如权利要求4所述的方法，其特征在于，所述初始发光模型的宽度小于所述待渲染对象的宽度。

6.如权利要求2所述的方法，其特征在于，所述根据所述初始发光模型中各顶点的拉伸偏移方向以及所述待渲染对象的目标发光区域，确定所述初始发光模型中各顶点的拉伸偏移距离，包括：

确定所述初始发光模型中的拉伸偏移方向不同且相邻的多个目标顶点；

根据各所述目标顶点的拉伸偏移方向、各所述目标顶点的当前位置以及所述目标发光区域的边界位置，得到各所述目标顶点的拉伸偏移距离；

根据各所述目标顶点的拉伸偏移方向以及拉伸偏移距离，确定所述初始发光模型中与各所述目标顶点的拉伸偏移方向相同的顶点的拉伸偏移距离。

7.如权利要求1所述的方法，其特征在于，在所述获取待渲染对象的初始发光模型中各顶点在二维纹理坐标系下的目标纹理坐标以及目标纹理坐标对应的像素信息之前，所述方法还包括：

获取所述待渲染对象中的第一骨骼顶点以及与所述第一骨骼顶点绑定的目标骨骼；

根据所述待渲染对象中的第一骨骼顶点确定所述初始发光模型中对应的第二骨骼顶点；

将所述初始发光模型中的第二骨骼顶点与所述目标骨骼进行绑定。