[发明专利]基于Ti/Al烧蚀层的冲击片换能元及其制备方法在审
| 申请号: | 202310261479.3 | 申请日: | 2023-03-17 |
| 公开(公告)号: | CN116136380A | 公开(公告)日: | 2023-05-19 |
| 发明(设计)人: | 吴立志;侯鑫瑞;沈瑞琪 | 申请(专利权)人: | 南京理工大学 |
| 主分类号: | F42B3/113 | 分类号: | F42B3/113;C23C14/35;C23C14/18;C23C14/08 |
| 代理公司: | 南京理工大学专利中心 32203 | 代理人: | 刘海霞 |
| 地址: | 210094 *** | 国省代码: | 江苏;32 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 基于 ti al 烧蚀层 冲击 片换能元 及其 制备 方法 | ||
1.基于Ti/Al烧蚀层的冲击片换能元,其特征在于,为Ti/Al/Al2O3/Al复合结构,以由Ti薄膜和Al薄膜组成的Ti/Al为烧蚀层、Al2O3薄膜为绝热层、Al薄膜为飞片层。
2.根据权利要求1所述的冲击片换能元,其特征在于,Ti/Al烧蚀层由厚度为0.01~0.13μmTi薄膜和0.13~0.25μmAl薄膜组成,Al2O3绝热层厚度为0.25μm,Al飞片层厚度为4.5μm。
3.根据权利要求1所述的冲击片换能元,其特征在于,Ti/Al烧蚀层由厚度为0.13μmTi薄膜和0.13μmAl薄膜组成。
4.根据权利要求1~3任一所述的冲击片换能元的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
(1)将洁净的铝、钛、氧化铝靶材及玻璃衬底,置于射频磁控溅射系统中,待真空达到5×10-3Pa、温度达到200℃时,通入氩气流量为8SCCM,进行离子束预溅射,离子束预溅射的束流维持在60mA,偏置电流为90mA,预溅射时间5min,活化玻璃衬底,使其形成倒悬键;
(2)待本底真空达到4×10-3Pa、温度达到200℃时,在氩气流量30SCCM制备激光冲击片换能元,各靶材的溅射工艺如下表所示,制得Ti/Al/Al2O3/Al冲击片换能元,
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