[发明专利]空化腔实验装置及空化腔实验方法

权利要求书

1.一种空化腔实验装置，其特征在于，包括：箱体、上凸台、下凸台和顶盖，所述箱体设置有空化室，所述空化室具有入口端和出口端，所述箱体包括顶板和底板，所述顶板与所述底板相对布置，所述上凸台安装于所述顶板且至少部分延伸至所述空化室内；所述下凸台安装于所述底板且至少部分延伸至所述空化室内，所述上凸台与所述下凸台之间设置有狭缝通道，所述顶盖安装于所述顶板且面向所述空化室，所述顶盖位于所述上凸台的靠近所述出口端的一侧。

2.根据权利要求1所述的空化腔实验装置，其特征在于，

所述上凸台与所述下凸台为半径一致的半圆台结构。

3.根据权利要求1所述的空化腔实验装置，其特征在于，

所述上凸台的端面呈半球面状且设置有上凹槽，所述下凸台的端面呈半球面状且设置有下凹槽，并且，所述上凹槽与所述下凹槽相偏离。

4.根据权利要求3所述的空化腔实验装置，其特征在于，

所述下凹槽位于所述上凹槽的下游，所述上凹槽与所述下凹槽均为锥形凹槽。

5.根据权利要求4所述的空化腔实验装置，其特征在于，

所述上凹槽和所述下凹槽的宽度均为S，所述上凹槽和所述下凹槽的深度均为h，0.1mm≤S≤1mm，0.2mm≤h≤2mm。

6.根据权利要求1所述的空化腔实验装置，其特征在于，

所述空化腔实验装置包括斜插管，所述斜插管安装于所述底板，所述下凸台连接于所述斜插管。

7.根据权利要求3所述的空化腔实验装置，其特征在于，

所述上凸台的半球面状端面的半径为R，所述箱体及其所述空化室的横截面可以为矩形结构，所述空化室的宽度D满足：7mm≤R≤20mm，2R≤D≤5R。

8.根据权利要求1所述的空化腔实验装置，其特征在于，

所述顶盖为空蚀试样片顶盖，用于放置含有涂层的试样片。

9.根据权利要求1所述的空化腔实验装置，其特征在于，

所述顶盖为压力传感器顶盖，所述压力传感器顶盖安装有压力传感器。

10.一种空化腔实验方法，其特征在于，采用权利要求1-9中任一项所述的空化腔实验装置。