[发明专利]一种纳米粒子可调控组装方法

权利要求书

1.一种纳米粒子的可调控自组装方法，其特征在于，包括以下步骤：

配置合适浓度的纳米粒子与表面活性剂形成的混合胶体乳液；

超疏水修饰结构化基板、超亲水修饰上基片；

构筑上基片-混合胶体乳液-结构化基板形成的“三明治”结构，在上基片和混合胶体乳液之间形成胶体乳液液桥；

胶体乳液液桥在合适的温度下蒸发、收缩，在上基片沉积，形成层数、厚度或者结构可控的纳米粒子自组装三维结构；

将沉积好纳米粒子的上基片与垫片和硅基板剥离，得到可控的纳米粒子自组装三维结构。

2.根据权利要求1所述的一种纳米粒子的可调控自组装方法，其特征在于，所述表面活性剂包括十二烷基苯磺酸钠和（SDBS）、十二烷基磺酸钠(SDS)、吐温20或吐温 80；和/或，所述表面活性剂的浓度范围为0-1%wt。

3.根据权利要求1所述的一种纳米粒子的可调控自组装方法，其特征在于，所述纳米粒子包括聚苯乙烯（PS）、聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)、荧光微球、二氧化硅(SiO₂)、二氧化钛(TiO₂)或量子点(QD)。

4.根据权利要求3所述的一种纳米粒子的可调控自组装方法，其特征在于，所述纳米粒子的粒径分布在几纳米到几百纳米；和/或，所述纳米粒子的分散度为单分散性或多分散性；和/或，所述纳米粒子的形状为规则型或不规则型。

5.根据权利要求1所述的一种纳米粒子的可调控自组装方法，其特征在于，所述结构化基板的特征尺寸为1-10微米，所述结构化基板的图案可设计成封闭或非封闭图形。

6.根据权利要求1所述的一种纳米粒子的可调控自组装方法，其特征在于，所述上基片包括ITO玻璃、聚丙烯酸（PAA）片、PMMA片或硅片。

7.根据权利要求6所述的一种纳米粒子的可调控自组装方法，其特征在于，所述硅片包括生长SiO₂纳米层的SiO₂@Si硅片。

8.根据权利要求1所述的一种纳米粒子的可调控自组装方法，其特征在于，还包括设置在所述结构化基板周围的垫片；和/或，所述垫片为PDMS垫片。

9.根据权利要求1的所述的一种纳米粒子的可调控自组装方法，其特征在于，还包括分别在所述“三明治”结构上方及下方设置上盖片、下盖片的步骤。

10.根据权利要求9的所述的一种纳米粒子的可调控自组装方法，其特征在于，还包括通过所述上盖片、所述下盖片施加压力的步骤。