[发明专利]低摩擦膜及其制造方法、成形体、以及手指滑动性改善方法

说明书

本发明制备了一种膜，其至少一侧表面的峰度(Rku)为2以上、且上述表面的最大截面高度(Rt)为1μm以上。上述表面的动摩擦系数可以为0.25以下，相对动摩擦系数可以为0.3以下。上述膜包含由含有固化性树脂的固化性组合物的固化物形成的低摩擦层，且该低摩擦层的表面可以具有上述范围的Rku及Rt。上述固化性树脂可以含有选自具有聚合性基团的(甲基)丙烯酸类聚合物、氨基甲酸酯(甲基)丙烯酸酯及有机硅(甲基)丙烯酸酯中的至少1种。上述固化性组合物可以进一步含有纤维素酯。上述固化性组合物可以不包含微粒。该膜即使由多种多样的材质形成表面，也可以降低动摩擦系数。

本申请是申请日为2018年10月11日、申请号为201880052370.6、发明名称为“低摩擦膜及其制造方法、成形体、以及手指滑动性改善方法”的申请的分案申请。

技术领域

本发明涉及用于覆盖触摸面板显示器、家电制品的框体、建筑材料等各种成形体的表面的低摩擦膜及其制造方法、成形体以及该膜的滑动性(特别是手指滑动性)改善方法。

背景技术

对于个人计算机(PC)、智能电话等中的触摸面板显示器、家电制品的框体、建筑材料等各种成形体的表面，为了防止划伤、提高触感，已知有粘贴硬涂膜作为表面保护层或覆盖层的方法、实施硬涂处理的方法。对该硬涂膜、硬涂层要求用手触摸时的滑动性良好，作为滑动性的改善方法，以往以来，通常通过实施含有有机硅化合物、氟化合物的硬涂处理来改善滑动性。

日本特开2007-264281号公报(专利文献1)中公开了一种用于光学层叠体的硬涂层，其是含有硅类化合物、氟类化合物或它们的混合物作为防污染剂和/或滑动性赋予剂而成的，且在对上述硬涂层的最表面进行了XPS解析的情况下，硅原子的存在率为10％以上、和/或氟原子的存在率为20％以上。

另外，WO2008/038714(专利文献2)中公开了一种光学功能膜，其具有基材、形成于该基材上的光学功能层、以及形成于上述光学功能层上的防污层，所述防污层的表面的元素比例为：硅元素(Si)与碳元素(C)之比Si/C为0.25～1、氟元素(F)与碳元素(C)之比F/C为0.1～1，液体石蜡接触角及滚落角为65°以上及15°以下，黑标记油墨接触角及滚落角为35°以上及15°以下，且动摩擦系数小于0.15。

然而，对于这些硬涂层及防污层，虽然可以利用有机硅化合物、氟化合物来降低表面的摩擦系数，但并不充分，而且会由于表面结构的微细差别而导致手指滑动性显著不同。另外，由于表面为拒水性，因此用途受到限制，并且由于通过湿式涂布来调平表面，因此难以利用对流现象来控制表面形状。

现有技术文献

专利文献

专利文献1：日本特开2007-264281号公报(权利要求1)

专利文献2：WO2008/038714(权利要求书第1项)

发明内容

发明所要解决的问题

因此，本发明的目的在于提供即使用多种多样的材质形成表面也可以降低动摩擦系数的低摩擦膜、成形体及其制造方法、以及该膜的手指滑动性改善方法。

另外，本发明的其它目的在于提供无需配合大量的有机硅化合物、氟化合物即可改善滑动性(特别是手指滑动性)的低摩擦膜及其制造方法、成形体、以及该膜的滑动性(特别是手指滑动性)改善方法。

解决问题的方法

本发明人为了解决上述课题而进行了深入研究，结果发现，通过调整膜表面的峰度(Rku)及最大截面高度(Rt)，即使由多种多样的材质形成表面，也可以降低动摩擦系数，从而完成了本发明。