[发明专利]筛网印花法制备多重防伪图案化光子晶体结构生色织物的方法在审
| 申请号: | 202310156385.X | 申请日: | 2023-02-23 |
| 公开(公告)号: | CN115976856A | 公开(公告)日: | 2023-04-18 |
| 发明(设计)人: | 邵建中;陆晓东;黄海东;王晓辉;黄益 | 申请(专利权)人: | 浙江理工大学 |
| 主分类号: | D06P1/16 | 分类号: | D06P1/16;D06P1/52;D06P1/44;D06P1/00 |
| 代理公司: | 浙江永航联科专利代理有限公司 33304 | 代理人: | 张进 |
| 地址: | 310018 浙江省杭州市江干*** | 国省代码: | 浙江;33 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 筛网 印花 法制 多重 防伪 图案 光子 晶体结构 生色 织物 方法 | ||
1.一种筛网印花法制备多重防伪图案化光子晶体结构生色织物的方法,其特征在于该方法包括以下步骤:
S1、配制用于结构生色的高质量分数纳米微球色浆、紫外荧光印花色浆
该纳米微球色浆是由纳米微球分散液、黑色素和表面活性剂混合而成,其中,纳米微球分散液中纳米微球的质量分数是36-50%,黑色素是纳米微球分散液重量的0.04-0.2%,表面活性剂是纳米微球分散液重量的1-3%;
所述纳米微球选自有机高分子聚合物聚甲基丙烯酸甲酯(PMMA)纳米微球、聚苯乙烯(PS)纳米微球、聚(苯乙烯-甲基丙烯酸甲酯)(P(St-MMA))、聚(苯乙烯-丙烯酸羟乙酯)(P(St-HEA))、聚(苯乙烯-甲基丙烯酸)(P(St-MAA))聚苯乙烯@聚多巴胺(PS@PDA)、聚苯乙烯@二氧化硅(PS@SiO2)或无机二氧化硅(SiO2)纳米微球中的任意一种;
该紫外荧光印花色浆是由紫外荧光响应物质、合成增稠剂和软段硬段共聚型的水性聚氨酯混合而成,其中,紫外荧光响应物质用量是水性聚氨酯重量的6-10%,合成增稠剂用量是水性聚氨酯重量的0.5-1.0%;
所述紫外荧光响应物质选自荧光分散染料、荧光增白剂或荧光素;
软段硬段共聚型的水性聚氨酯以水分散液的形式添加,质量分数为45-55%;
S2、应用筛网印花法在疏水织物表面刮印紫外荧光印花色浆以制备具有防伪信息的紫外荧光第一防伪图案;
S3、在S2得到的具有紫外荧光第一防伪图案的疏水织物表面通过筛网印花法刮印浆料以制备亲水性的透明图案基底层并完全覆盖紫外荧光第一防伪图案;
所述透明图案基底层的浆料是由合成增稠剂、软段硬段共聚型的水性聚氨酯或水性聚丙烯酸酯、亲水性物质混合而成,其中,合成增稠剂用量是水性聚氨酯或水性聚丙烯酸酯重量的0.5-1.0%,亲水性物质用量是水性聚氨酯或水性聚丙烯酸酯的0.5-2.5%,
软段硬段共聚型的水性聚氨酯或水性聚丙烯酸酯以水分散液的形式添加,质量分数为45-55%;
所述亲水性物质为丙三醇、乙二醇、丙二醇、尿素中的一种或几种的混合;
S4、将高质量分数纳米微球色浆刮涂于S3得到的亲水性透明图案基底层表面以制备光子晶体第二防伪图案;
S5、将S4得到的织物加热处理,完成纳米微球的组装、高分子层界面分子的活化、迁移和在光子晶体结构内部的二次固化、光子晶体结构的稳定固化,得到多重防伪图案化光子晶体结构生色织物。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:S2中,筛网印花工艺为:橡胶刮板在100-150目筛网上刮印两次,80-90℃烘干,140-150℃焙烘1-2min,得到具有防伪信息的紫外荧光第一防伪图案。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:S3中,筛网印花工艺为:橡胶刮板在100-150目筛网上刮印两次,80-90℃烘干,120-130℃焙烘1-2min,且制备的透明图案基底层要完全覆盖第一防伪图案。
4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:所述纳米微球的直径为150~350nm,球形度良好,且单分散指数小于0.08。
5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:S5中加热处理条件为:温度50-70℃,湿度50-70%,时间3-60min。
6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:所述织物为天然纤维或合成纤维中的一种或其中几种的混纺织物,天然纤维包括棉、麻、丝或毛,合成纤维包括涤纶、锦纶、氨纶、丙纶、腈纶、聚乳酸或碳纤维,并对上述织物进行疏水整理;
所述疏水整理的工艺为:含硅拒水整理剂或者含氟拒水整理剂浓度4-6%(owf),浴比1:15-25的条件下对织物浸渍处理15-20min,挤干,80-90℃烘干,140-150℃焙烘1-2min,得到强疏水的织物。
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