[发明专利]面向对象的集成电路的物理验证的规则描述方法

说明书

本发明公开了一种面向对象的集成电路的物理验证的规则描述方法，包括：创建规则文件；在所述规则文件中根据集成电路的物理验证的几何图形定义基本几何处理对象；在所述规则文件中提供访问每种基本几何处理对象的公共属性和/或特有属性的方法；创建规则解析器，使得集成电路的版图基于所述规则文件描述物理验证的规则时通过所述规则解析器对所述规则文件中的定义进行词法解析和语法解析。本发明的规则描述方法直观简洁，降低了规则实现的复杂度。

技术领域

本发明涉及集成电路的物理验证的技术领域，尤其涉及一种能简洁描述工艺热点问题的集成电路的物理验证的规则描述方法。

背景技术

在芯片设计流程中，物理设计是最接近工艺制造端的一个步骤，除了需要保证不能出现短路、断路这类基本的设计要求外，大部分工作都是面向工艺制造，需要解决工艺制造中可能出现的各自问题，这些问题都以一条条的规则体现出来。

如图1所示，物理设计的输入一般是一个版图文件，以及一个描述工艺规则，器件规则等的规则文件，逐条对版图文件进行规则的检查，然后报告违背的种类，数量以及位置等。

其中版图文件通常是GDS格式，基于数据压缩的考虑，后续又出现了OASIS格式，不管那种格式，都是对版图的一个描述，而且这两种格式都是公开的工业标准。

而规则文件有很大的不同，和具体的工艺厂、工艺特征尺寸以及所使用的EDA都有关系，比如：工艺厂上，SMIC和TSMC的28nm规则的数量和内容是不同的，SMIC会比TSMC的规则多很多，用来弥补制造能力方面的限制；特征尺寸上，SMIC内的28nm和65nm，或者65nm下的LL和HK工艺，其工艺规则是有较大差异的；不同的EDA工具的规则文件语法都不相同。

和版图文件相比，可以看到工业界内还未对规则文件的描述达成一致，但对同一条规则而言，其表达的方式以及使用的关键字以及总体方案都非常相似，都是将规则描述以边的方式描述出来。例如先找到对应的边，然后再处理相邻关系，最后考虑特殊情况，过滤特定区域的违背。该方法的好处是降低了软件开发和芯片设计之间耦合度，不管多么复杂的规则，都可以化繁为简，将复杂的自然语言细分成对特定边的约束描述，软件开发只管开发一些测量方法；而芯片设计根据规则的描述，使用不同的测量方法来实现规则的具体检查功能。

而其缺点也很明显，在先进工艺中，尤其引入光学矫正OPC流程时，对于更加复杂的规则或光学热点检测时，则显得力不从心。比如图2的这条规则，一种物理验证EDA工具的描述就接近百行，可读性和可维护性都非常差。

因此，业内迫切需要一种新的方法来进行规则的描述。

发明内容

为了解决现有技术中的规则描述的方式较为复杂、可读性差的技术问题，本发明提出了面向对象的集成电路的物理验证的规则描述方法。

如图3所示，本发明提出的面向对象的集成电路的物理验证的规则描述方法，包括：

创建规则文件；

在所述规则文件中根据集成电路的物理验证的几何图形定义基本几何处理对象；

在所述规则文件中提供访问每种基本几何处理对象的公共属性和/或特有属性的方法；

创建规则解析器，使得集成电路的版图基于所述规则文件描述物理验证的规则时通过所述规则解析器对所述规则文件中的定义进行词法解析和语法解析。

进一步，所述基本几何处理对象包括图层、图形、边、角、边对、两个图像对象外侧的边对集合、两个图形对象内侧的边对集合、一个图形的外侧到另一个图形的内侧的边对集合、一个图形的内侧到另一个图形的外侧的边对集合、正方形、斜矩形、梯形、环、多边形当中的至少一种。

进一步，所述图形、正方形、斜矩形、梯形、环、多边形的公共属性包括基本几何处理对象的面积。