[发明专利]非金属硫族化合物制备二维TMDs合金的方法在审
| 申请号: | 202310112635.X | 申请日: | 2023-02-14 |
| 公开(公告)号: | CN116200820A | 公开(公告)日: | 2023-06-02 |
| 发明(设计)人: | 辛星;刘为振;丁梦凡;辛巍;陈佳美;徐海阳 | 申请(专利权)人: | 东北师范大学 |
| 主分类号: | C30B25/00 | 分类号: | C30B25/00;C30B29/64;B82Y30/00;B82Y40/00;C30B29/52 |
| 代理公司: | 长春市东师专利事务所 22202 | 代理人: | 张铁生 |
| 地址: | 130024 吉林*** | 国省代码: | 吉林;22 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 非金属 化合物 制备 二维 tmds 合金 方法 | ||
1.非金属硫族化合物制备二维TMDs合金的方法,采用CVD法,其特征在于:所述的非金属生长源为包含两种硫族元素的非金属硫族化合物。
2.根据权利要求1所述的非金属硫族化合物制备二维TMDs合金的方法,其特征在于:通过调整非金属生长源与金属生长源添加量的重量比,改变TMDs合金中两种硫族元素的化学计量比。
3.根据权利要求2所述的非金属硫族化合物制备二维TMDs合金的方法,其特征在于:所述的非金属硫族化合物包括:SeS2、 SeTe和或TeS2。
4.根据权利要求3所述的非金属硫族化合物制备二维TMDs合金的方法,其特征在于:所述的生长温度为700 ℃~1000 ℃,在生长过程中通入氢气和惰性气体。
5.根据权利要求4所述的非金属硫族化合物制备二维TMDs合金的方法,其特征在于:金属反应源为WO3或MoO3;衬底为金或非金属衬底,所述的非金属衬底包括:硅片、蓝宝石、云母或石英。
6.根据权利要求1、2、3、4或5所述的非金属硫族化合物制备二维TMDs合金的方法,其特征在于:所述的金属生长源1~200mg,非金属生长源1~100mg,金属生长源与非金属生长源的重量比为0.1~10。
7.根据权利要求6所述的非金属硫族化合物制备二维TMDs合金的方法,其特征在于:所制备的二维TMDs合金中,两种硫族元素的化学计量比的范围为0~1。
8.根据权利要求7所述的非金属硫族化合物制备二维TMDs合金的方法,其特征在于:所制备的二维TMDs合金层数均匀,层数为1~10层。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东北师范大学,未经东北师范大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202310112635.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。





