[发明专利]一种光刻胶组合物及其制备方法在审
申请号: | 202310105690.6 | 申请日: | 2023-02-13 |
公开(公告)号: | CN116300311A | 公开(公告)日: | 2023-06-23 |
发明(设计)人: | 吴佳敏;叶俊;雷鹏程 | 申请(专利权)人: | 吴佳敏 |
主分类号: | G03F7/004 | 分类号: | G03F7/004 |
代理公司: | 北京天下创新知识产权代理事务所(普通合伙) 16044 | 代理人: | 王梅 |
地址: | 214400 江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 光刻 组合 及其 制备 方法 | ||
1.一种光刻胶组合物,其特征在于,包括以下质量份数的原料:
所述光刻胶组合物的制备方法,包括以下步骤:
步骤一:避光条件下,取二分之一质量份数的溶剂放置于反应容器中,氮气排空,后持续通入氮气,加入质量份数的金属团簇物,搅拌混合均匀,加入质量份数的三苯基硫鎓盐,继续搅拌混合均匀,得到混合物A;
步骤二:避光条件下,取剩余质量份数的溶剂放置于反应容器中,氮气排空,后持续通入氮气,加入取质量份数的对羟基苯乙烯共聚物、环氧乙烷和自由基光引发剂,搅拌混合均匀,得到混合物B;
步骤三:避光条件下,将步骤一得到的混合物A、步骤二得到的混合物B混合,磁力搅拌3~12h,得到光刻胶组合物。
2.根据权利要求1所述的光刻胶组合物,其特征在于,所述对羟基苯乙烯共聚物结构通式为:
其中,官能团R为
中的一种或几种。
3.根据权利要求1所述的光刻胶组合物,其特征在于,所述三苯基硫鎓盐的结构通式为:
其中R为卤素阴离子、对羟基苯磺酸阴离子、六氟磷酸根阴离子、磺酸根阴离子、三氟甲磺酸根阴离子中的一种或几种。
4.根据权利要求1所述的光刻胶组合物,其特征在于:所述金属团簇物为以金属Sn、Zn、Zr、Sb、Ti中的一种为核心,以甲基丙烯酸、三氟乙酸、4-甲基吡唑、2-(三氟甲基)丙烯酸、含芳环有机羧酸中的一种或几种为配体构成的金属团簇物,金属核心数为4个、6个或8个。
5.根据权利要求4所述的光刻胶组合物,其特征在于:所述金属团簇物为以四个金属原子为核心的金属团簇物,其结构式为:
其中M代表金属原子、R代表配体。
6.根据权利要求1所述的光刻胶组合物,其特征在于:所述环氧乙烷为枝状环氧乙烷树脂,为:
中的一种或几种。
7.根据权利要求1所述的光刻胶组合物,其特征在于:所述自由基光引发剂为2-羟基-2-甲基-1-苯基丙酮、1-羟基环己基苯基甲酮、异丙基噻吨酮按照质量比为1:3~5:2混合而成。
8.根据权利要求1所述的光刻胶组合物,其特征在于:所述溶剂为二乙二醇单甲醚、乙酸乙酯、乙酸正丁酯、环戊酮、环已酮中的一种或几种。
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