[发明专利]一种防止I2C总线挂死的方法及PCIE设备拓展装置在审

专利信息
申请号: 202310080427.6 申请日: 2023-02-03
公开(公告)号: CN116431548A 公开(公告)日: 2023-07-14
发明(设计)人: 岳远斌;宋晓锋;张锋 申请(专利权)人: 苏州浪潮智能科技有限公司
主分类号: G06F13/42 分类号: G06F13/42;G06F15/78
代理公司: 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 代理人: 张元;杨帆
地址: 215000 江苏省苏州*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 防止 i2c 总线 方法 pcie 设备 拓展 装置
【说明书】:

发明提出了一种防止I2C总线挂死的方法及PCIE设备拓展装置,其中,方法包括:通过BMC芯片监控PCIE设备的在位情况;响应于BMC芯片依次通过I2C总线以及I2C拓展芯片轮询读取PCIE设备中的数据前,判断对应的拓展通道后的PCIE设备是否在位;响应于判断对应的拓展通道后的PCIE设备在位,打开对应的拓展通道,并读取对应的PCIE设备中的数据。本发明通过BMC监控PCIE设备的在位状态,并控制仅在对应的I2C拓展芯片的拓展通道后的PCIE设备在位时才控制进行对PCIE设备的数据读取,能够有效避免因PCIE设备不在位而发生的I2C挂死问题。

技术领域

本发明涉及总线设计领域,尤其涉及一种防止I2C总线挂死的方法及PCIE设备拓展装置。

背景技术

BMC(Baseboard Management Controller基板管理控制器)芯片中的I2C通道数量有限,当需要通过I2C(Inter-Integrated Circuit bus IIC总线)监控的外部设备随着数据中心机房的需求增多时,就需要通过I2C switch(I2C拓展芯片)的方式进行I2C通道的扩展。I2C switch的优势在于能够扩展通道,但是由于switch后面的设备均挂载在同一组I2C上,如果一个有问题则会导致整个I2C链路处于挂死状态,例如,当switch后面的通道没有挂载设备的时候,I2C总线的电平会处于高低电平之间的中间态,如果I2Cswitch芯片误将其认定为低电平而通过其读取数据时,则I2C总线就会被挂死,进而导致其他拓展通道上的设备无法被正常访问。

发明内容

为解决上述技术问题,在本发明的第一方面,提出了一种防止I2C总线挂死的方法,包括:通过BMC芯片监控PCIE设备的在位情况;响应于BMC芯片依次通过I2C总线以及I2C拓展芯片轮询读取所述PCIE设备中的数据前,判断对应的拓展通道后的PCIE设备是否在位;响应于判断对应的拓展通道后的PCIE设备在位,打开所述对应的拓展通道,并读取对应的PCIE设备中的数据。

在一个或多个实施例中,本发明的一种防止I2C总线挂死的方法还包括:响应于判断对应的拓展通道后的PCIE设备不在位,保持所述对应的拓展通道的关闭状态,并轮询下一个PCIE设备。

在一个或多个实施例中,本发明的一种防止I2C总线挂死的方法还包括:在所述I2C拓展芯片与所述PCIE设备之间设置隔离电路,所述隔离电路与所述BMC芯片连接,配置用于受控打开或关闭所述I2C拓展芯片与所述PCIE设备之间的任一拓展通道。

在一个或多个实施例中,所述隔离电路包括设置于每个拓展通道上的MOS开关及上拉电阻。

在一个或多个实施例中,本发明的一种防止I2C总线挂死的方法还包括:响应于所述BMC芯片监控到所述PCIE设备由在位状态变为不在位状态,控制所述置隔离电路关闭对应的拓展通道。

在一个或多个实施例中,本发明的一种防止I2C总线挂死的方法还包括:初始时,所述MOS开关均处于受控关闭状态。

在本发明的第二方面,提出了一种PCIE设备拓展装置,其特征在于,包括:

BMC芯片;I2C拓展芯片,所述I2C拓展芯片与所述BMC芯片通过I2C总线连接,配置用于拓展连接PCIE设备;PCIE插槽,所述PCIE插槽与所述I2C拓展芯片通过I2C总线连接,且所述PCIE插槽用于与PCIE设备的在位引脚连接的第一引脚与所述BMC芯片连接;隔离电路,所述隔离电路设置于所述I2C拓展芯片与所述PCIE插槽之间,并分别与所述I2C拓展芯片与所述PCIE插槽连接,配置用于受控打开或关闭所述I2C拓展芯片与所述PCIE插槽之间的任一拓展通道。

在一个或多个实施例中,所述隔离电路包括设置于每个拓展通道上的MOS开关及上拉电阻。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于苏州浪潮智能科技有限公司,未经苏州浪潮智能科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202310080427.6/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top