[发明专利]一种避免金属过刻的画素稳压阵列基板及其制作方法在审

专利信息
申请号: 202310064515.7 申请日: 2023-01-28
公开(公告)号: CN116013938A 公开(公告)日: 2023-04-25
发明(设计)人: 毛清平 申请(专利权)人: 福建华佳彩有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77;G02F1/1362;G02F1/1343
代理公司: 福州市京华专利代理事务所(普通合伙) 35212 代理人: 吴学林
地址: 351100 福*** 国省代码: 福建;35
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摘要:
搜索关键词: 一种 避免 金属 稳压 阵列 及其 制作方法
【权利要求书】:

1.一种避免金属过刻的画素稳压阵列基板,其特征在于,包括:

玻璃衬底;

第一金属层,镀在所述玻璃衬底的上表面,形成了间隔分布的栅极、控制栅极的CK信号走线、控制导电层的CK信号走线,所述控制栅极的CK信号走线的电位高低与所述控制导电层的CK信号走线的电位高低相反;

栅绝缘层,镀在所述玻璃衬底与所述第一金属层的上表面,所述栅绝缘层开设有第一挖孔、第二挖孔与第三挖孔,所述栅极露出于所述第一挖孔,所述控制栅极的CK信号走线露出于所述第二挖孔,所述控制导电层的CK信号走线露出于所述第三挖孔;

有源层,镀在所述栅绝缘层的上表面,还位于所述栅极的正上方;

第二金属层,镀在所述栅绝缘层的上表面,形成了间隔分布的源极、漏极与第一信号连接线,所述源极与所述有源层的左端连接,所述漏极与所述有源层的右端连接,所述第一信号连接线的右端穿过所述第一挖孔与所述栅极连接,所述第一信号连接线的左端穿过所述第二挖孔与所述控制栅极的CK信号走线连接;

钝化层,镀在所述栅绝缘层、有源层、第二金属层的上表面,所述钝化层开设有第四挖孔与第五挖孔,所述第四挖孔与所述第三挖孔相通,所述控制导电层的CK信号走线露出于所述第四挖孔,所述漏极露出于所述第五挖孔;

导电层,镀在所述钝化层的上表面,还位于所述漏极的正上方,在所述钝化层的上表面还镀有第二信号连接线,所述导电层与所述第二信号连接线的右端连接,所述第二信号连接线的左端穿过所述第四挖孔、第三挖孔与所述控制导电层的CK信号走线连接;

画素电极,镀在所述钝化层的上表面,所述画素电极的引线穿过所述第五挖孔与所述漏极连接。

2.根据权利要求1所述的一种避免金属过刻的画素稳压阵列基板,其特征在于,还包括:

所述第二金属层还形成了间隔分布的TP走线;

外绝缘层,镀在所述画素电极、导电层、钝化层的上表面,所述外绝缘层还开设有第六挖孔,所述第六挖孔穿透所述钝化层,所述TP走线露出于所述第六挖孔;

公共电极,镀在所述外绝缘层的上表面,所述公共电极还通过所述第六挖孔与所述TP走线连接。

3.根据权利要求2所述的一种避免金属过刻的画素稳压阵列基板,其特征在于,所述第一金属层是Ti/AL/Ti三层结构,所述第二金属层是MO/AL/MO三层结构。

4.根据权利要求2所述的一种避免金属过刻的画素稳压阵列基板,其特征在于,所述栅绝缘层是SiOx单层结构或者SiNx/SiOx双层结构,所述钝化层是SiO2材质,所述外绝缘层是SiOx或者SiNO或者SiNx材质。

5.根据权利要求2所述的一种避免金属过刻的画素稳压阵列基板,其特征在于,所述有源层是IGZO材质,所述导电层、画素电极与公共电极都是ITO材质。

6.根据权利要求2所述的一种避免金属过刻的画素稳压阵列基板,其特征在于,所述导电层与所述漏极之间形成补充电容,所述栅极与所述漏极之间形成寄生电容,所述补充电容与所述寄生电容的电容大小相等。

7.根据权利要求2所述的一种避免金属过刻的画素稳压阵列基板,其特征在于,所述导电层与所述第二信号连接线没有覆盖到所述有源层的沟道。

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