[发明专利]一种光学相干断层多点分布式成像方法在审

专利信息
申请号: 202310054182.X 申请日: 2023-02-03
公开(公告)号: CN116223374A 公开(公告)日: 2023-06-06
发明(设计)人: 丁尧禹;雷晨光;李浩;李金键;赵天意;白利兵;周权;张杰;田露露;程玉华 申请(专利权)人: 电子科技大学
主分类号: G01N21/01 分类号: G01N21/01;A61B5/00;G01N21/47
代理公司: 成都行之智信知识产权代理有限公司 51256 代理人: 温利平
地址: 611731 四川省成*** 国省代码: 四川;51
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摘要:
搜索关键词: 一种 光学 相干 断层 多点 分布式 成像 方法
【权利要求书】:

1.一种光学相干断层多点分布式成像方法,其特征在于,包括以下步骤:

(1)、一束相干光从光源通过光学介质传导出来,该束相干光经过第一道分光镜被分成两束子相干光,分别进入参考臂及测量臂;

(2)、进入测量臂的子相干光被进一步分光,根据测点的数目被细分到每一个测点,测量臂上第i个测点的测量臂长即第一道分光镜到测点界面的光程为si

(3)、进入参考臂的子相干光也以步骤(2)同样的方式进行分光,根据测点的数目被细分到每个测点对应的反射镜面上,参考臂上第i个测点对应的参考臂长即第一道分光镜到反射镜面的光程为ri

(4)、第i个测点的分光即测量光束在被测对象表面散射,散射分光从原路返回,第i个测点对应的反射镜面对细分到其上的分光即参考光束进行反射,反射分光从原路返回,散射分光与反射分光在第一道分光镜形成相干干涉,形成一个子光路干涉对;

为避免子光路干涉对在深度成像中相互重叠,在此对每个参考臂长ri进行递增偏移,使得干涉对之间具有不同的特征行程差即测点表面深度为0mm时参考臂长与测量臂长的光路行程差;

每个子光路干涉对在系统成像深度范围内不同的深度区间内干涉成像,得到N个测点的干涉图像,并且满足:

a、abs(si-ri)id/N,其中,id是OCT系统的成像深度,N是测点总数目;

b、Δd=ri+1-ri且Δdmax(pi),其中,Δd为A扫窗口宽度,pi为第i个测点的穿透深度,max(pi)表示第i个测点的最大穿透深度;

c、si-si-1id且ri-ri-1id;

(5)、对干涉成像进行处理,得到断层图像即A扫,然后根据预先设定的A扫窗口位置及宽度对每个干涉对的断层图像进行截断与后处理,得到每个相应测点的断层图像。

2.根据权利要求1所述的光学相干断层多点分布式成像方法,其特征在于,测量臂为逐阶分光的多个光纤耦合器构成,分光强度比例根据根据整体测量性能优化而定,最后一阶的光纤耦合器的尾纤端口各自接准直镜和聚焦镜,根据测点的位置进行焦距固定,形成参考臂长si

3.根据权利要求1所述的光学相干断层多点分布式成像方法,其特征在于,参考臂为逐阶分光的多个光纤耦合器构成,分光强度比例根据整体测量性能优化而定,分出的分光分配到阶梯型反射镜面上,最后一阶的光纤耦合器的尾纤端口各自接准直镜和聚焦镜,准直镜平行对齐放置固定,阶梯型反射镜面与准直镜垂直放置,每一个光束对应一个台阶面;阶梯型反射镜面最高的台阶面与第一束参考光束对应,每一个光束的聚焦镜根据对应台阶面的位置不同,选择能够将光束聚焦在对应镜面的焦距,从而形成参考臂长ri

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