[发明专利]一种精油缓释颗粒及其制备方法

权利要求书

1.一种精油缓释颗粒的制备方法，其特征在于，包括：

将精油与水溶性材料共混，形成共混体系；向所述共混体系中加入表面活性剂和盐，并充分搅拌，经干燥处理后得到精油与水溶性材料的黏合材料；

将所述黏合材料与合成高分子材料粉体共混，并依次经过研磨和造粒处理，形成缓释颗粒；

去除所述缓释颗粒中的水溶性材料，再经干燥处理，得到合成高分子材料包裹精油分子的精油缓释颗粒。

2.根据权利要求1所述的精油缓释颗粒的制备方法，其特征在于，所述精油与所述水溶性材料的质量比为1:1～1:20；

所述水溶性材料选自可溶性淀粉、羧甲基纤维素、羧甲基壳聚糖和阿拉伯胶中的任意一种。

3.根据权利要求1所述的缓释精油的制备方法，其特征在于，所述表面活性剂的添加量为1％～5％；

所述表面活性剂选自聚氧乙烯山梨醇酐单油酸酯、椰油脂肪酸二乙醇酰胺、脂肪醇聚氧乙烯醚、月桂醇聚氧乙烯醚和聚乙二醇辛基苯基醚中的至少一种。

4.根据权利要求1所述的精油缓释颗粒的制备方法，其特征在于，所述盐的添加量为1％～10％；

所述盐选自氯化钠、氯化钾、磷酸二氢钾、磷酸二氢钾、硫酸钠和硫酸钾中的至少一种。

5.根据权利要求1所述的精油缓释颗粒的制备方法，其特征在于，所述合成高分子材料为可降解的合成高分子材料；

所述合成高分子材料选自聚乳酸、聚羟基脂肪酸酯、聚己内酯、聚乳酸-羟基乙酸共聚物中的任意一种；

所述黏合材料与所述合成高分子材料的质量比为1:1～1:5。

6.根据权利要求1所述的精油缓释颗粒的制备方法，其特征在于，所述研磨使用低温固相研磨设备进行，所述低温固相研磨设备的工作温度为-18～-10℃，工作时间为5-60min，研磨后的粒径为500～1000nm。

7.根据权利要求1所述的精油缓释颗粒的制备方法，其特征在于，所述缓释颗粒的粒径为1～3mm。

8.根据权利要求1所述的精油缓释颗粒的制备方法，其特征在于，所述干燥处理，其中温度均不高于40℃。

9.根据权利要求1所述的精油缓释颗粒的制备方法，其特征在于，通过水洗去除所述缓释颗粒中的水溶性材料，其中，所述水洗的温度为20～30℃。

10.一种精油缓释颗粒，其特征在于，采用权利要求1-9任一项所述的精油缓释颗粒的制备方法制备得到，所述精油缓释颗粒包括精油分子和合成高分子材料，所述精油分子包裹于所述合成高分子材料中。