[发明专利]一种显示面板及其制备方法

说明书

本发明公开了一种显示面板及其制备方法，显示面板包括：显示区和围绕所述显示区的周边区；所述周边区上设置有凸起的平台结构，所述平台结构上设置有对位标记，所述对位标记在所述平台结构上表面的正投影位于所述上表面内，且所述上表面的面积大于所述正投影的面积。通过本发明提供了一种对位准确度高的显示面板及其制备方法。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种显示面板及其制备方法。

背景技术

显示面板为多功能层堆叠的膜层结构，在其制备过程中，往往需要进行多次曝光显影来实现各功能层的图形化。然而，曝光显影需要通过对位标记来对准，以避免各功能层的错位。

以彩色滤光片工艺(Color Filter on Encapsulation，COE)技术制备的显示面板为例。虽然COE技术能增加出光量，节约了大量的生产成本，但其像素定义层和黑色矩阵层的对位精度急需提高。

发明内容

鉴于上述问题，提出了本发明以便提供一种克服上述问题或者至少部分地解决上述问题的显示面板及其制备方法。

第一方面，提供一种显示面板，包括：

显示区和围绕所述显示区的周边区；

所述周边区上设置有凸起的平台结构，所述平台结构上设置有对位标记，所述对位标记在所述平台结构上表面的正投影位于所述上表面内，且所述上表面的面积大于所述正投影的面积。

可选的，所述平台结构的高度为1.0～5.0μm；所述对位标记的厚度为0.1～0.5μm。

可选的，所述平台结构的材料为有机可固化材料。

可选的，所述平台结构的材料为光敏聚酰亚胺或亚克力。

可选的，所述衬底基板上依次设置有源漏层和平坦层，所述平台结构与所述平坦层同层；或者，所述衬底基板上依次设置有晶体管层和像素定义层，所述平台结构与所述像素定义层同层。

可选的，所述衬底基板上设置有源漏层，所述对位标记与所述源漏层同层；或者，所述衬底基板上设置有金属电极层，所述对位标记与所述金属电极层同层。

可选的，所述正投影的边缘与所述上表面的边缘均间隔。第二方面，提供一种显示面板的制备方法，包括：

提供衬底基板；

在所述衬底基板上形成凸起的平台结构；

在所述平台结构上制备对位标记，所述对位标记在所述平台结构上表面的正投影位于所述上表面内，且所述上表面的面积大于所述正投影的面积；

基于所述对位标记，进行对位曝光工艺以制备功能层。

可选的，所述平台结构的高度为1.0～5.0μm；所述对位标记的厚度为0.1～0.5μm。

可选的，所述平台结构的材料为有机可固化材料。

可选的，所述平台结构的材料为光敏聚酰亚胺或亚克力。

可选的，所述在所述衬底基板上形成凸起的平台结构，包括：在所述衬底基板上形成源漏层，并在所述源漏层上形成平坦层；图形化所述平坦层形成所述平台结构；或者，在所述衬底基板上形成晶体管层，并在所述晶体管层上形成像素定义层；图形化所述像素定义成层形成所述平台结构。

可选的，所述在所述平台结构上制备对位标记，包括：在形成有所述平台结构的所述衬底基板上形成源漏层；图形化所述源漏层形成所述对位标记；或者，在形成有所述平台结构的所述衬底基板上形成金属电极层；图形化所述金属电极层形成所述对位标记。

可选的，所述正投影的边缘与所述上表面的边缘均间隔。