[发明专利]半导体装置、电池保护电路及电源管理电路在审
申请号: | 202280006532.9 | 申请日: | 2022-03-25 |
公开(公告)号: | CN116250076A | 公开(公告)日: | 2023-06-09 |
发明(设计)人: | 山本兴辉;高田晴久 | 申请(专利权)人: | 新唐科技日本株式会社 |
主分类号: | H01L21/8234 | 分类号: | H01L21/8234 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 吕文卓 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 半导体 装置 电池 保护 电路 电源 管理 | ||
1.一种半导体装置,是能够面朝下安装的芯片尺寸封装型的半导体装置,其特征在于,
具备:
半导体层;以及
N个纵型MOS晶体管,形成在上述半导体层内,N是3以上的整数;
上述N个纵型MOS晶体管分别在上述半导体层的上表面具有与该纵型MOS晶体管的栅极电极电连接的栅极焊盘、以及与该纵型MOS晶体管的源极电极电连接的1个以上的源极焊盘;
上述半导体层具有半导体衬底;
上述半导体衬底作为上述N个纵型MOS晶体管的共通漏极区域发挥功能;
与上述N个纵型MOS晶体管各自的最大规格电流对应地,最大规格电流越大则上述半导体层的平面图中的上述N个纵型MOS晶体管各自的面积越大。
2.如权利要求1所述的半导体装置,其特征在于,
上述半导体层的平面图中的上述N个纵型MOS晶体管各自的面积与上述N个纵型MOS晶体管各自的最大规格电流的平方成比例。
3.如权利要求1或2所述的半导体装置,其特征在于,
上述N个纵型MOS晶体管各自的流过最大规格电流时的导通电阻与上述N个纵型MOS晶体管各自的最大规格电流的平方成反比例。
4.如权利要求1~3中任一项所述的半导体装置,其特征在于,
上述N个纵型MOS晶体管中的1个,是最大规格电流等于上述N个纵型MOS晶体管中的K个纵型MOS晶体管的最大规格电流之和的特定纵型MOS晶体管,K是2以上且N-1以下的整数。
5.如权利要求1~3中任一项所述的半导体装置,其特征在于,
上述N个纵型MOS晶体管中的至少1个,是所具有的上述1个以上的源极焊盘为1个源极焊盘的特定纵型MOS晶体管;
在上述半导体层的平面图中,至少1个上述特定纵型MOS晶体管分别具有的上述栅极焊盘及上述1个源极焊盘是正圆形,在上述N个纵型MOS晶体管分别具有的上述栅极焊盘及上述1个以上的源极焊盘之中,不存在与至少1个上述特定纵型MOS晶体管分别具有的上述栅极焊盘及上述1个源极焊盘相比面积刻意减小的栅极焊盘及源极焊盘。
6.如权利要求1~5中任一项所述的半导体装置,其特征在于,
上述半导体装置在上述半导体层的平面图中是矩形;
在上述N个纵型MOS晶体管中,由规格决定的1个以上的电流路径各自中的位于该电流路径的入口或出口处的第1出入口纵型MOS晶体管和位于出口或入口处的第2出入口纵型MOS晶体管在上述半导体层的平面图中彼此相邻。
7.如权利要求6所述的半导体装置,其特征在于,
上述半导体装置在上述半导体层的平面图中是长方形;
在上述半导体层的平面图中,上述1个以上的电流路径各自中的上述第1出入口纵型MOS晶体管与上述第2出入口纵型MOS晶体管的边界线平行于上述半导体装置的长边。
8.如权利要求6所述的半导体装置,其特征在于,
在上述半导体层的平面图中,上述1个以上的电流路径各自中的上述第1出入口纵型MOS晶体管与上述第2出入口纵型MOS晶体管的边界线相对于上述半导体装置的4个边的哪个都不平行。
9.如权利要求6所述的半导体装置,其特征在于,
在上述半导体层的平面图中,上述1个以上的电流路径各自中的上述第1出入口纵型MOS晶体管与上述第2出入口纵型MOS晶体管的边界线通过将平行于上述半导体装置的4个边中的第1边的线段以及平行于与上述第1边正交的第2边的线段交替地连接而形成。
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H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
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