[实用新型]一种引线框架清洗装置

说明书

本申请提供一种引线框架清洗装置，包括：清洗池、旋转架、清洗筐、进料轨道及出料轨道。旋转架转动设于清洗池上，旋转架沿圆周阵列设有四个清洗筐，清洗筐沿长度方向的两端贯穿，且其两侧的内壁上开设有多对容纳槽，容纳槽的两端均设有可转动的挡板。进料轨道及出料轨道，分别位于旋转架的两侧。进料轨道的外侧设有第一推板，用于将进料轨道上同一个料盒内的引线框架同时推入对应侧且呈水平状态的清洗筐。四个清洗筐之间设有第二推板，用于将呈水平状态的另一个清洗筐内的引线框架同时推出，并将引线框架同时推至出料轨道上的空料盒内。具有较高的清洗效率。

技术领域

本实用新型属于引线框架清洗设备技术领域，尤其涉及一种引线框架清洗装置。

背景技术

引线框架在生产过程中，通常会利用如申请号为202021318807.7专利公开的一种用于光耦引线支架的转运装置，对引线框架进行存储及转移，引线框架主要作为生产半导体器件的载体，因此对清洁度具有较高的要求。现有的清洗装置，需要将引线框架从转运装置一片一片的推出，然后再通过传送带式清洗机对引线框架一片一片的进行清洗，清洗完成之后再将引线框架一片一片的推入转运装置内，此种清洗方式的在推出、清洗以及推入环节的耗较长，导致清洗效率较低。

实用新型内容

为解决现有技术不足，本实用新型提供一种引线框架清洗装置，具有较高的清洗效率。

为了实现本实用新型的目的，拟采用以下方案：

一种引线框架清洗装置，包括：清洗池、旋转架、清洗筐、进料轨道及出料轨道。

旋转架转动设于清洗池上，其转动的轴线呈水平设置，旋转架沿圆周阵列设有四个清洗筐，清洗筐的长度方向垂直于旋转架的转动轴线，清洗筐沿长度方向的两端贯穿，且其两侧的内壁上开设有多对容纳槽，容纳槽平行于清洗筐的长度方向，容纳槽的两端均设有可转动的挡板。

进料轨道及出料轨道，分别位于旋转架的两侧，均用于输送装有待清洗引线框架的料盒，且输送方向均与旋转架的转动轴线平行。

进料轨道的外侧设有第一推板，用于将进料轨道上同一个料盒内的引线框架同时推入对应侧且呈水平状态的清洗筐。

四个清洗筐之间设有第二推板，用于将呈水平状态的另一个清洗筐内的引线框架同时推出，并将引线框架同时推至出料轨道上的空料盒内。

进一步的，第一推板及第二推板各设于一伸缩气缸的活动端。

进一步的，进料轨道及出料轨道均为滚轮输送结构，且均采用电机驱动。

进一步的，进料轨道对应推出引线框架的位置以及出料轨道对应承接引线框架的位置均设有检测开关。

进一步的，第一推板及第二推板均为呈竖直设置的平板结构，且第一推板及第二推板的宽度均小于引线框架的宽度，第一推板及第二推板的高度覆盖料盒内层叠的所有引线框架，且小于料盒及清洗筐的内空高度。

进一步的，清洗筐的四个角对应容纳槽的端部各穿设有一根连接杆，连接杆垂直于清洗筐的底面，挡板均转动设于连接杆。

进一步的，挡板与连接杆连接的一端中部具有缺口，对应性缺口处设有U型结构的弹簧片，弹簧片的两块侧板位于挡板的两侧，连接杆位于弹簧片的两块侧板之间，弹簧片的底板与容纳槽的内侧壁贴合。

本实用新型的有益效果在于：通过沿圆周阵列设置的四个清洗筐，可保证当其中一个清洗筐内的引线框架在进行清洗时，另外一对处于水平状态的清洗筐中的一个正在装入待清洗的引线框架，而处于水平状态的另一清洗筐内已经被清洗过的引线框架将同时被推出，减少了送料、清洗以及出料之间的等待时间；并且个清洗筐可同时容纳多片引线框架，可实现同时对多片引线框架进行送料、清洗以及出料，从而提高清洗的效率。

附图说明