[实用新型]集成电路恒温单元以及集成电路工艺系统

说明书

本申请提出一种集成电路恒温单元。所述集成电路恒温单元经配置以维持供液管中的液体的温度。本申请还提出一种集成电路工艺系统。所述集成电路工艺系统包括加热单元、控制单元、喷淋单元以及上述的集成电路恒温单元。所述加热单元经配置以加热显影液。所述控制单元通过第一供液管从所述加热单元接收所述显影液。所述控制单元经配置以控制所述显影液的流量。所述喷淋单元通过第二供液管从所述控制单元接收所述显影液。所述喷淋单元经配置以将所述显影液喷淋至晶圆上。

技术领域

本申请是有关于半导体领域，详细来说，是有关于一种集成电路恒温单元以及集成电路工艺系统。

背景技术

在现有技术中，若要对晶圆进行显影工艺时，通常需要将工艺所需的显影液加热到工艺所需温度。然而，加热后的显影液再传送到其他装置(如流量控制装置和喷淋装置)后，由于热能的耗散，显影液的温度无法维持在工艺所需温度，如此将造成工艺条件有所偏差，最终导致工艺效果不如预期，严重的话影响产品良率。

实用新型内容

有鉴于此，本申请提出一种集成电路恒温单元以及集成电路工艺系统来解决上述问题。

依据本申请的一实施例，提出一种集成电路恒温单元。所述集成电路恒温单元经配置以维持供液管中的液体的温度。

依据本申请的一实施例，所述集成电路恒温单元包括：循环装置和恒温管。所述循环装置经配置以提供固定温度的恒温液。所述恒温液在所述恒温管内流通。所述恒温管包围所述供液管。

依据本申请的一实施例，所述恒温管的横截面包括环状结构，所述供液管设置在所述环状结构的内圈里，所述恒温液在所述环状结构的环内流通。

依据本申请的一实施例，所述供液管连接于加热单元和流量控制单元之间。所述恒温管包括连接于所述加热单元的输出端和所述流量控制单元的输入端之间的第一段。

依据本申请的一实施例，所述供液管还连接于所述流量控制单元和喷淋单元之间。所述恒温管包括连接于所述流量控制单元的输出端和所述喷淋单元的输入端之间的第二段。

依据本申请的一实施例，所述液体为显影液。

依据本申请的一实施例，提出一种集成电路工艺系统。所述集成电路工艺系统包括上述集成电路恒温单元。

依据本申请的一实施例，所述集成电路工艺系统还包括加热单元、控制单元、喷淋单元。所述加热单元经配置以加热显影液。所述控制单元通过第一供液管从所述加热单元接收所述显影液。所述控制单元经配置以控制所述显影液的流量。所述喷淋单元通过第二供液管从所述控制单元接收所述显影液。所述喷淋单元经配置以将所述显影液喷淋至晶圆上。

依据本申请的一实施例，所述加热单元包括热交换器。所述热交换器通过电阻加热丝加热所述显影液。

依据本申请的一实施例，所述控制单元包括流量计。

在本申请提出的集成电路恒温单元和集成电路工艺系统中，通过包覆第一供液管和第二供液管的恒温管循环地输送恒温液，恒温管内流通的恒温液可以保持第一供液管和第二供液管中的显影液的热能不散失。如此一来，原先已加热到工艺所需温度的显影液在传输到其他单元后仍能维持工艺所需温度，借此可以避免工艺条件产生偏差，并提升产品良率。

附图说明

附图是用来提供对本申请的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与下面的具体实施方式一起用于解释本申请，但并不构成对本申请的限制。在附图中：

图1演示依据本申请一实施例的集成电路工艺系统的方块示意图。

图2演示依据本申请一实施例的集成电路工艺系统的示意图。

图3演示依据本申请一实施例的恒温管的横截面图。

图4演示依据本申请一实施例的集成电路工艺系统的示意图。