[实用新型]一种液晶显示屏加工用蚀刻装置有效
申请号: | 202223227055.5 | 申请日: | 2022-12-02 |
公开(公告)号: | CN218886338U | 公开(公告)日: | 2023-04-18 |
发明(设计)人: | 徐志豪;张忠信;陈玉婷 | 申请(专利权)人: | 深圳市丰裕泰电子科技有限公司 |
主分类号: | G02F1/13 | 分类号: | G02F1/13 |
代理公司: | 深圳市深企为专利代理事务所(普通合伙) 44957 | 代理人: | 王林华 |
地址: | 518000 广东省深圳市龙岗区*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 液晶显示屏 工用 蚀刻 装置 | ||
本实用新型涉及显示屏蚀刻技术领域,具体是一种液晶显示屏加工用蚀刻装置,所述外壳体的一侧固定安装有观察挡板,所述观察挡板上嵌入安装有观察窗,所述外壳体的内侧壁固定安装有通风扇,所述外壳体的下端固定安装有刻蚀安装座,所述刻蚀安装座的顶端固定安装有刻蚀槽,所述刻蚀槽的内侧固定安装有滑动件,所述刻蚀槽的中部固定安装有排水件,所述排水件的一端延伸至刻蚀槽的一侧,所述刻蚀槽的侧边固定安装有截流开关,所述排水件的一侧固定安装有排水连接件。本实用新型通过设置有置物板支撑帽的结构,根据需要调整支撑帽的分布,使需要蚀刻的显示屏可以均匀受力的浸入蚀刻液中进行蚀刻。
技术领域
本实用新型涉及显示屏蚀刻技术领域,具体是一种液晶显示屏加工用蚀刻装置。
背景技术
刻蚀,它是半导体制造工艺,微电子IC制造工艺以及微纳制造工艺中的一种相当重要的步骤。是与光刻相联系的图形化处理的一种主要工艺,所谓刻蚀,实际上狭义理解就是光刻腐蚀,先通过光刻将光刻胶进行光刻曝光处理,然后通过其它方式实现腐蚀处理掉所需除去的部分。刻蚀是用化学或物理方法有选择地从硅片表面去除不需要的材料的过程,其基本目标是在涂胶的硅片上正确地复制掩模图形。随着微制造工艺的发展,广义上来讲,刻蚀成了通过溶液、反应离子或其它机械方式来剥离、去除材料的一种统称,成为微加工制造的一种普适叫法。
由于显示屏的面积比较大,传统刻蚀装置采用夹具进行固定,在蚀刻不同尺寸显示器的时候需要更换不同配件才能进行蚀刻,非常不方便。因此,本领域技术人员提供了一种液晶显示屏加工用蚀刻装置,以解决上述背景技术中提出的问题。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种液晶显示屏加工用蚀刻装置,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种液晶显示屏加工用蚀刻装置,包括外壳体,所述外壳体的一侧固定安装有观察挡板,所述观察挡板上嵌入安装有观察窗,所述外壳体的内侧壁固定安装有通风扇,所述外壳体的下端固定安装有刻蚀安装座,所述刻蚀安装座的顶端固定安装有刻蚀槽,所述刻蚀槽的内侧固定安装有滑动件,所述刻蚀槽的中部固定安装有排水件,所述排水件的一端延伸至刻蚀槽的一侧,所述刻蚀槽的侧边固定安装有截流开关,所述排水件的一侧固定安装有排水连接件,所述刻蚀安装座的侧边固定安装有置物槽,所述置物槽的上侧设置有置物推杆,所述置物推杆的一端固定安装有推杆柄,所述置物推杆的一侧固定安装有置物板,所述置物槽的中部开设有液体回收槽。
作为本实用新型更进一步的方案:所述置物板的中部开设有不少于四组通槽,且每组通槽不少于七个,所述置物板的通槽内设置有多组支撑帽。
作为本实用新型更进一步的方案:所述支撑帽的上端为圆台体的金属构件。
作为本实用新型更进一步的方案:所述置物槽的上侧为倒锥形表面,所述液体回收槽的一端开设在置物槽的上表面,且液体回收槽另一端开设在所述置物槽的侧边。
作为本实用新型更进一步的方案:所述刻蚀槽的上侧为倒锥形表面,且所述刻蚀槽为耐腐蚀的金属构件。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:本实用新型通过设置有置物板支撑帽的结构,可以通过在操作时,根据调整支撑帽的分布,保证不同尺寸的显示屏都可以均匀受力的放置在支撑板上进行蚀刻。
附图说明
图1为一种液晶显示屏加工用蚀刻装置的总体结构示意图;
图2为一种液晶显示屏加工用蚀刻装置的置物槽截面图;
图3为一种液晶显示屏加工用蚀刻装置的刻蚀槽截面图。
图中:1、外壳体;2、通风扇;3、刻蚀槽;4、置物槽;5、刻蚀安装座;6、观察窗;7、观察挡板;8、置物推杆;9、推杆柄;10、液体回收槽;11、置物板;12、支撑帽;13、滑动件;14、截流开关;15、排水连接件;16、排水件。
具体实施方式
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