[实用新型]自清洁机构及回转窑

权利要求书

1.一种自清洁机构，用于回转窑，所述回转窑包括窑简体，其特征在于，所述自清洁机构包括活动设于所述窑简体内的刮件，所述刮件包括本体和多个刮爪，所述本体沿所述窑简体的轴向延伸，多个所述刮爪绕设于所述本体的外周，所述刮爪用于刮除所述窑简体内壁上的物料结垢。

2.根据权利要求1所述的自清洁机构，其特征在于，多个所述刮爪呈螺线状绕设于所述本体，多个所述刮爪首尾相连形成弹簧状结构。

3.根据权利要求2所述的自清洁机构，其特征在于，所述窑简体的内壁上设有沿所述窑简体的径向延伸的拨片，所述刮件还包括与所述拨片对应设置的挡片，所述挡片连接于所述本体，所述挡片与所述刮件间隔设置。

4.根据权利要求3所述的自清洁机构，其特征在于，所述挡片远离所述本体的一侧低于或者等于所述刮爪远离所述本体的一侧。

5.根据权利要求1所述的自清洁机构，其特征在于，所述回转窑还包括设于所述窑简体前端的窑头罩和设于所述窑简体尾端的窑尾罩，所述自清洁机构还包括第一连接座和第一连接件，所述第一连接座连接于所述窑头罩或所述窑尾罩的外侧，所述第一连接件活动连接所述第一连接座和所述刮件。

6.根据权利要求1所述的自清洁机构，其特征在于，所述回转窑还包括设于所述窑简体前端的窑头罩和设于所述窑简体尾端的窑尾罩，所述自清洁机构还包括：

第一连接座，连接于所述窑头罩的外侧；

第二连接座，连接于所述窑尾罩的外侧；

第一连接件，活动连接所述第一连接座和所述刮件的一端；以及

第二连接件，活动连接所述第二连接座和所述刮件的另一端。

7.根据权利要求5或6所述的自清洁机构，其特征在于，所述自清洁机构还包括驱动件，所述驱动件用于驱动所述第一连接件转动。

8.根据权利要求1所述的自清洁机构，其特征在于，所述自清洁机构还包括至少两个限位件，所述限位件沿所述窑简体的径向凸设于所述窑简体的内壁，至少两个所述限位件沿所述窑简体的轴向间隔分布，以将所述窑简体隔开形成多个子区间，所述刮件活动设于其中一个或者多个所述子区间内。

9.根据权利要求8所述的自清洁机构，其特征在于，在所述窑简体的径向上，所述限位件的截面形状为圆环、半圆环、椭圆、不规则多边形、方形、菱形或三角形中的任一者。

10.一种回转窑，其特征在于，包括窑简体和如权利要求1至9任一项所述的自清洁机构，所述自清洁机构安装于所述窑简体。