[实用新型]溶液清洁设备

说明书

本实用新型涉及清洗技术领域，公开一种溶液清洁设备，包括溶液槽和溢流槽，其中溶液槽用于盛放溶液，待清洗的产品放置于溶液槽内进行清洗，而溢流槽设置于溶液槽内，溢流槽的槽壁上设置有多个溢流缺口，以使溶液槽内的溶液可经溢流缺口溢流至溢流槽内，而后再从溢流槽的槽底排出。溢流缺口的设置，使得溢流槽周边的液体环境形成液位差，这使得表面的液体更容易向低液位处流动，即向溢流槽内溢流，从而实现表面异物聚集于溢流槽的目的，而后再将溢流槽内的液体同异物一同从溢流槽的槽底排出，即可起到对溶液槽内的杂质进行清洁的目的。

技术领域

本实用新型涉及清洗技术领域，尤其涉及一种溶液清洁设备。

背景技术

偏光片制造过程中，需要用到各类溶液对PVA膜材进行处理，而PVA膜材经过溶液处理后，会析出一些杂质污染溶液，同时处理PVA膜材的溶液有使用到硼酸，此类溶液与空气接触容易形成结晶，如果不及时处理掉，这些杂质及硼酸会附着在膜材表面带入下一个槽内，甚至嵌进膜材内而形成异物，并逐渐累积，影响产品品质，影响良率。现有专利(CN204167272U)公开一种溢流槽，其通过在槽体顶部设置吹气管道，利用吹出的高压气体将漂浮在介质上的杂质吹扫到溢流管中，以此实现对杂质的清理。但是这一结构在槽体较大的情况下需要较大的风压，一方面会导致液面波动较大，另一方面需要安装空压机并持续吹风，需要其他设备及能耗。

因此，亟需一种溶液清洁设备，以解决上述问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种溶液清洁设备，能够实现对溶液上漂浮杂质的清理，同时可避免液面波动对产品生产带来的不良影响，还可减少能耗。

如上构思，本实用新型所采用的技术方案是：

溶液清洁设备，包括：

溶液槽，所述溶液槽用于盛放溶液；

溢流槽，所述溢流槽位于所述溶液槽内，所述溢流槽的槽壁上设置有多个溢流缺口，所述溶液槽内的溶液可经所述溢流缺口溢流至所述溢流槽内，并从所述溢流槽的槽底排出。

可选地，多个所述溢流缺口沿所述溢流槽的所述槽壁的长度方向均匀间隔设置。

可选地，所述溢流槽还包括槽体，所述槽体和所述槽壁可拆卸连接，且在竖直方向上，所述槽壁和所述槽体的相对位置可调。

可选地，所述溢流槽包括边部溢流槽，垂直所述边部溢流槽的长度方向的一侧槽壁抵接所述溶液槽。

可选地，所述溢流槽包括中部溢流槽，所述中部溢流槽的长度方向的两端分别连接所述溶液槽的侧壁。

可选地，所述溢流槽设置有多个。

可选地，所述溶液槽内还设置有进液管，所述进液管用于向所述溶液槽内补充溶液，所述进液管靠近所述溶液槽的槽底设置。

可选地，所述进液管的出口均匀设置于外周面上，溶液经所述出口流入所述溶液槽内。

可选地，所述溶液清洁设备还包括回流件，所述回流件用于连通所述溢流槽的槽底与所述进液管的入口，所述溢流槽排出的溶液经所述回流件清洁后回流至所述溶液槽内。

可选地，所述溢流槽的槽底设置有出液口，所述出液口位于所述溢流槽的长度方向的两端，所述回流件连接于两端所述溢流槽的槽底，以支撑所述溢流槽。

本实用新型的有益效果为：