[实用新型]用于气悬式涂布机的气悬浮平台和气悬式涂布机

说明书

本实用新型的实施例提出一种用于气悬式涂布机的气悬浮平台和具有该用于气悬式涂布机的气悬浮平台的气悬式涂布机。其中，所述气悬浮平台包括涂布机架、气悬浮平台体和定位移载机构。所述气悬浮平台体设置在所述涂布机架上，所述气悬浮平台体包括沿所述涂布机架的长度方向依次设置的上料浮起台、涂布浮起台和下料浮起台，所述涂布浮起台能够与涂布模头对应设置，所述定位移载机构用于移载玻璃基材，定位移载机构可移动地设置在涂布机架上以便使玻璃基材能够与上料浮起台、涂布浮起台和下料浮起台可切换地对应。因此，本实用新型实施例的用于气悬式涂布机的气悬浮平台具有提升玻璃基材载移的稳定性及提升涂布质量的优点。

技术领域

本实用新型涉及半导体行技术领域，具体涉及一种用于气悬式涂布机的气悬浮平台和具有该用于气悬式涂布机的气悬浮平台的气悬式涂布机。

背景技术

通常在半导体行装置及显示器的制造工艺中，会在处理基板(玻璃基材)上的涂布特定功能的薄膜(例如：氧化薄膜、金属薄膜和半导体薄膜等)；狭缝式涂布是一种在一定压力下，将涂液沿着模具缝隙压出并转移到移动的处理基板上的一种涂布技术。气悬式涂布机利用气悬浮平台的向上方喷出高压气体，并通过该高压空气的压力使基板悬浮，具有涂布速度快、涂膜均匀性好的优点。并配合通过气悬浮平台的输送部将浮在气悬浮平台上的基板以能够装卸的方式保持并沿气悬浮平台的长度方向输送该基板，但是该输送部存在对基板定位能力差，进而导致基板在输送过程中易偏斜的问题。

发明内容

本实用新型旨在至少在一定程度上解决相关技术中的技术问题之一。为此，本实用新型的实施例提出一种用于气悬式涂布机的气悬浮平台。该用于气悬式涂布机的气悬浮平台具有提升玻璃基材载移的稳定性及提升涂布质量的优点。

本实用新型的实施例还提出一种气悬式涂布机。

本实用新型实施例的用于气悬式涂布机的气悬浮平台包括涂布机架、气悬浮平台体和定位移载机构。

所述气悬浮平台体设置在所述涂布机架上，所述气悬浮平台体包括沿所述涂布机架的长度方向依次设置的上料浮起台、涂布浮起台和下料浮起台，所述涂布浮起台能够与涂布模头对应设置，所述定位移载机构用于移载玻璃基材，所述定位移载机构可移动地设置在所述涂布机架上以便使所述玻璃基材能够与所述上料浮起台、所述涂布浮起台和所述下料浮起台可切换地对应。

本实用新型实施例的用于气悬式涂布机的气悬浮平台，通过设置定位移载机构可以对玻璃基材载移的同时，可以对玻璃基材进行定位，防止玻璃基材在载移和涂布的过程因出现偏移而影响涂布质量的问题。由此，提升了对玻璃基材载移的稳定性及涂布位置和质量的一致性。

因此，本实用新型实施例的用于气悬式涂布机的气悬浮平台具有提升玻璃基材载移的稳定性及提升涂布质量的优点。

在一些实施例中，所述涂布机架包括涂布架体和至少两个导轨，至少两个所述导轨沿所述涂布机架的宽度方向上间隔开地设置在所述涂布架体上，且至少两个所述导轨均沿所述涂布机架的长度方向延伸，所述定位移载机构包括沿所述涂布机架的宽度方向上间隔且相对设置的第一定位支撑架和第二定位支撑架，所述第一定位支撑架和所述第二定位支撑架与其中两个所述导轨对应配合，所述第一定位支撑架和所述第二定位支撑架中的每一者均能够移载所述玻璃基材。

在一些实施例中，所述第一定位支撑架和所述第二定位支撑架中的每一者均包括导向件、限位件和定位吸附件，所述导向件与所述导轨导向配合，所述限位件与所述导向件连接，所述定位吸附件沿所述涂布机架的长度方向上可移动地设置在所述导向件上，所述定位吸附件能够吸附所述玻璃基材。

在一些实施例中，所述导向件包括导块和升降调节台，所述导块与所述导轨导向配合，所述升降调节台的一端与所述导块连接，所述升降调节台沿上下方向延伸，所述限位件设置在所述升降调节台上，且所述限位件沿上下方向可移动地设置在所述升降调节台上。