[实用新型]一种抛光设备

说明书

本实用新型属于抛光加工的技术领域，公开了一种抛光设备，其包括：抛光盘、冷却装置以及检测组件。抛光盘内具有冷却腔，抛光盘设有与冷却腔连通的进水接头及出水接头；冷却装置与进水接头及出水接头分别连接。检测组件设置于抛光盘并用于检测抛光盘的温度，检测组件与冷却装置无线通讯连接，以选择性地启动冷却装置。以此对抛光盘持续有效散热，有利于抛光设备适应各种工艺，提高该抛光设备对不成熟工艺的适用性。同时还能够通过对冷却水温度的调整模拟加工温度环境，以便于预测抛光盘的面型变化。检测组件通过无线信号传递的方式传递检测数据，便于操作人员通过人机交互界面对冷却装置进行操作，简化操作流程，提高了人机友好性。

技术领域

本实用新型涉及抛光加工的技术领域，尤其涉及一种抛光设备。

背景技术

抛光加工是一种对硅晶圆片、蓝宝石片、碳化硅片等硬脆材料的表面进行打磨的加工方式。抛光过程中需要上下两个抛光盘夹紧工件，利用抛光盘的高速旋转与工件之间形成机械摩擦，同时会加注抛光液，抛光液会与产品产生化学反应，以顺利实现对产品表面的抛光加工。

现有技术中，抛光设备的抛光盘内开设有冷却腔，在抛光盘进行加工时，冷却腔内会注入循环流道的冷却水，以对抛光盘进行冷却。而且冷却水会持续供给，以实现对抛光盘的稳定散热。该抛光盘在应用时，如果工艺较为成熟，则在对工件进行抛光是抛光盘的转速、压力及抛光液的供给都能够保持恒定，其加工过程中产生的热量也会恒定，通过持续供给恒定温度下的冷却水以有效对抛光盘进行冷却。

但是如果应用在工艺不成熟的情况时，则需要根据新的数据来确定需要持续供给的冷却水的温度，该确定过程需要进行大量的实验，导致该抛光设备对工艺的适应性较差。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种抛光设备，解决了现有技术中当抛光盘应用在不成熟的工艺时，需要经过大量实验才能确定用于对抛光盘冷却的冷却水的温度，导致该抛光设备对不同工艺的适应性较差的问题。

为达此目的，本实用新型采用以下技术方案：

一种抛光设备，其包括：抛光盘、冷却装置以及检测组件。所述抛光盘内具有冷却腔，所述抛光盘设有与所述冷却腔连通的进水接头及出水接头；冷却装置与所述进水接头及所述出水接头分别连接。检测组件设置于所述抛光盘并用于检测所述抛光盘的温度，所述检测组件与所述冷却装置无线通讯连接，以选择性地启动所述冷却装置，所述冷却装置用于调节冷却水的温度后向所述冷却腔内注入循环流动的冷却水。

可选地，所述检测组件包括：安装套，设置于所述抛光盘；以及检测器，设置于所述安装套，所述检测器的检测端穿过所述安装套并靠近所述抛光盘的加工面设置。

可选地，所述安装套采用隔热材料制成。

可选地，所述检测组件设置间隔分布多个。

可选地，多个所述检测组件沿所述抛光盘的径向间隔分布。

可选地，所述抛光盘包括：冷却盘，所述冷却腔设置于冷却盘内，所述进水接头、所述出水接头以及所述检测组件均设置于所述冷却盘；以及加工盘，设置于所述冷却盘的底面，所述加工盘的底面作为加工面，所述检测组件的检测端穿过所述冷却盘并伸入所述加工盘内。

可选地，所述冷却装置包括：冷却箱，与所述出水接头连通；循环泵，与所述冷却箱及所述进水接头分别连通；以及恒温组件，与所述冷却箱连接以用于对所述冷却箱内的冷却水进行加热或降温。

可选地，所述恒温组件包括：压缩机，所述压缩机的进水口和出水口均与所述冷却箱连通，以用于将所述冷却箱内的冷却水抽出并经过冷却后回流至所述冷却箱内。

可选地，所述恒温组件还包括：加热器，设置于所述压缩机的出水口与所述冷却箱之间，以对经过所述压缩机的冷却水进行加热。

本实用新型的有益效果：