[实用新型]一种用于无铬成膜剂的均匀搅拌装置

权利要求书

1.一种用于无铬成膜剂的均匀搅拌装置，包括反应装置(1)；其特征在于：反应装置(1)内设置有空腔(2)，空腔(2)底部设置有圆锥形凹槽(3)；空腔(2)顶部设置有第一圆环(4)，第一圆环(4)另一端设置于圆锥形凹槽(3)内；第一圆环(4)上端表面设置有一个以上的排料槽(6)；

圆锥形凹槽(3)表面分设有一个以上的刮板(7)；第一圆环(4)内安装有转轴(8)，转轴(8)一端连接一个以上的刮板(7)，转轴(8)外侧安装有蛟龙(9)。

2.根据权利要求1所述的用于无铬成膜剂的均匀搅拌装置，其特征在于：反应装置(1)表面设置有第一环形凹槽(10)，第一环形凹槽(10)侧面设置有第二环形凹槽(11)，第一环形凹槽(10)内安装有转盘(13)；转盘(13)侧面设置有第二圆环(12)；

第二环形凹槽(11)内安装有轴承转盘(14)；第二圆环(12)安装于第二环形凹槽(11)内，并设置有轴承转盘(14)上端；反应装置(1)上端安装有电机(15)，反应装置(1)表面设置有轴承(16)；电机(15)的电机轴(17)设置于轴承(16)内，并与转轴(8)连接。

3.根据权利要求2所述的用于无铬成膜剂的均匀搅拌装置，其特征在于：转盘(13)上表面设置有一个以上的第一固定支架(18)，第一固定支架(18)连接电机轴(17)；转盘(13)下表面设置有一个以上的搅拌柱(19)，搅拌柱(19)设置于空腔(2)内。

4.根据权利要求2所述的用于无铬成膜剂的均匀搅拌装置，其特征在于：反应装置(1)上端面设置有用于固定电机(15)的第二固定支架(20)；转轴(8)与电机轴(17)同轴设置。

5.根据权利要求3所述的用于无铬成膜剂的均匀搅拌装置，其特征在于：空腔(2)底部开设有第一排料管(21)，反应装置(1)下表面设置有一条以上的支腿(22)，反应装置(1)下表面还安装有连接第一排料管(21)的第二排料管(23)，第二排料管(23)上安装有阀门；第一排料管(21)与转轴(8)同轴设置。