[实用新型]成像镜头、相机模块及电子装置

权利要求书

1.一种成像镜头，其特征在于，包含：

多个光学元件，一光轴通过所述多个光学元件；以及

一光路径转折机构，配置于该光轴上用以转折该光轴至少一次，且包含：

至少一光线转折元件，包含：

一反射面，用以将该至少一光线转折元件的一入光光路转折至一出光光路；

一入光面，配置于该反射面的物侧，且该入光光路通过该入光面；及

一出光面，配置于该反射面的像侧，且该出光光路通过该出光面；

一遮光结构，设置于该至少一光线转折元件的该入光面和该出光面中至少一者上，且该遮光结构包含：

一主要遮光部，位于通过该光轴的一横截面上最靠近该光轴的一边缘部；及

一纳米结构层，连续分布于该至少一光线转折元件的该入光面和该出光面中至少该者与该遮光结构的该主要遮光部上，该纳米结构层呈现多个不规则脊状凸起；

其中，该遮光结构的该主要遮光部环绕该光轴定义一通光区域；

其中，该纳米结构层的平均高度介于90nm至350nm。

2.如权利要求1所述的成像镜头，其特征在于，该遮光结构同时设置于该至少一光线转折元件的该入光面和该出光面上。

3.如权利要求1所述的成像镜头，其特征在于，该主要遮光部的边缘厚度介于0.4um至50um。

4.如权利要求1所述的成像镜头，其特征在于，该纳米结构层的平均高度介于125nm至300nm。

5.如权利要求4所述的成像镜头，其特征在于，该纳米结构层的平均高度介于195nm至255nm。

6.如权利要求1所述的成像镜头，其特征在于，该至少一光线转折元件还包含一连接结构层，该连接结构层设置于该纳米结构层与该至少一光线转折元件的该入光面和该出光面中至少该者之间。

7.如权利要求6所述的成像镜头，其特征在于，该连接结构层进一步设置于该纳米结构层与该遮光结构之间。

8.如权利要求1所述的成像镜头，其特征在于，该至少一光线转折元件的数量为二，且该光路径转折机构用以转折该光轴二次。

9.如权利要求8所述的成像镜头，其特征在于，该二光线转折元件的该二反射面互相平行。

10.如权利要求1所述的成像镜头，其特征在于，该至少一光线转折元件的数量为三，且该光路径转折机构用以转折该光轴三次。

11.如权利要求10所述的成像镜头，其特征在于，该三光线转折元件的所述多个反射面的其中二者互相垂直。

12.如权利要求1所述的成像镜头，其特征在于，该至少一光线转折元件还包含一连接面，该连接面连接该反射面、该入光面及该出光面。

13.如权利要求1所述的成像镜头，其特征在于，该至少一光线转折元件为塑胶光线转折元件。

14.如权利要求1所述的成像镜头，其特征在于，该至少一光线转折元件为玻璃光线转折元件。

15.如权利要求1所述的成像镜头，其特征在于，该至少一光线转折元件的阿贝数介于40至65。

16.一种相机模块，其特征在于，包含：

如权利要求1所述的成像镜头。

17.一种电子装置，其特征在于，包含：

如权利要求16所述的相机模块；以及

一电子感光元件，设置于该相机模块的一成像面。