[实用新型]一种废旧靶材再利用处理机构

说明书

本实用新型涉及一种废旧靶材再利用处理机构，包括靶材本体，所述靶材本体的中部设置有消耗区域，所述靶材本体的四个转角处均设置有未消耗区域，所述靶材本体的内部设置有替换机构，所述替换机构包括第一空腔、拼接块、定位销、弹簧、第二空腔、插槽和定位孔。该废旧靶材再利用处理机构，通过设置第一空腔和第二空腔，便于替换消耗区域和未消耗区域的位置，使使用后的废旧靶材本体可以进行再次利用，当靶材本体使用完后，中间会出现消耗区域，将消耗区域从第一空腔内取出，再将第二空腔内的未消耗区域替补在第一空腔内，那么靶材本体可以再次利用，通过在消耗区域和未消耗区域的内部均设置两个拼接块，使两个拼接块可以插接到第二空腔内。

技术领域

本实用新型涉及靶材技术领域，具体为一种废旧靶材再利用处理机构。

背景技术

镀膜靶材是通过磁控溅射、多弧离子镀或其他类型的镀膜系统在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源，简单说的话，靶材就是高速荷能粒子轰击的目标材料，用于高能激光武器中，不同功率密度、不同输出波形、不同波长的激光与不同的靶材相互作用时，会产生不同的杀伤破坏效应。

靶材在溅射镀膜的过程中，由于磁场出现磁界线，电子抨击靶材，使靶材表面形成弧状或者圆弧的一些形态，而现有的技术中，在使用完后直接整体报废，但是靶材溅射消耗的面积较小，利用率较低，造成较大的浪费，故而提出一种废旧靶材再利用处理机构来解决上述问题。

实用新型内容

针对现有技术的不足，本实用新型提供了一种废旧靶材再利用处理机构，具备提高靶材利用率等优点，解决了靶材在溅射镀膜的过程中，由于磁场出现磁界线，电子抨击靶材，使靶材表面形成弧状或者圆弧的一些形态，而现有的技术中，在使用完后直接整体报废，但是靶材溅射消耗的面积较小，利用率较低，造成较大的浪费的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种废旧靶材再利用处理机构，包括靶材本体，所述靶材本体的中部设置有消耗区域，所述靶材本体的四个转角处均设置有未消耗区域，所述靶材本体的内部设置有替换机构；

所述替换机构包括第一空腔、拼接块、定位销、弹簧、第二空腔、插槽和定位孔，所述靶材本体的中部开设有第一空腔，所述消耗区域和未消耗区域的内部均活动安装有数量为两个的拼接块，每两个所述拼接块相背离的一侧均固定安装有定位销，每两个所述拼接块相对的一侧之间均设置有数量为两个的弹簧，所述靶材本体的四个转角处均开设有第二空腔，四个所述第二空腔的两侧均开设有插槽，每两个所述插槽相背离的一侧均开设有数量为两个的定位孔。

进一步，四个所述未消耗区域的形状和面积均与所述消耗区域相等，四个所述第二空腔均与所述第一空腔的形状和面积相等，所述第一空腔与消耗区域和四个所述未消耗区域均相适配。

进一步，每一个所述拼接块的大小和面积均相等，且每一个拼接块的顶部均固定安装有控制杆，所述插槽与拼接块相适配。

进一步，所述消耗区域和未消耗区域的前后两侧均开设有与拼接块相适配的的开口，每两个所述拼接块相对的一侧分别贯穿开口并延伸至消耗区域和未消耗区域的外部。

进一步，所述消耗区域和四个未消耗区域的左右内壁上均开设有与拼接块相适配的滑槽，每一个所述拼接块均通过两个滑槽分别与消耗区域和未消耗区域滑动连接。

进一步，每一个所述定位孔均与第二空腔之间相贯通，且每一个定位孔均与定位销相适配。

与现有技术相比，本申请的技术方案具备以下有益效果：