[实用新型]一种法兰及半导体设备

权利要求书

1.一种法兰，其特征在于，同轴连接于具有温差的端面上；所述端面划分为高温区和低温区；所述法兰包括：

主体(1)，形成水冷腔；所述水冷腔划分为第一区域(101)和第二区域(102)；

进水管(2)，连通于所述第一区域(101)；

出水管(3)，连通于所述第二区域(102)；

其中，

所述第一区域(101)位于所述高温区所在的一侧；

所述第二区域(102)位于所述低温区所在的一侧。

2.根据权利要求1所述的法兰，其特征在于，

所述第二区域(102)位于所述第一区域(101)的顶部；

所述出水管(3)位于所述第二区域(102)的顶部。

3.根据权利要求2所述的法兰，其特征在于，所述第一区域(101)内设置有水流均布件(4)。

4.根据权利要求3所述的法兰，其特征在于，所述水流均布件(4)为设置在所述第一区域(101)内部，且与所述第一区域(101)连通的迷宫式流道。

5.根据权利要求4所述的法兰，其特征在于，

在与所述主体(1)的中轴线垂直的截面上，所述迷宫式流道的壁的截面形状为平行排布的多个矩形；

或，

在与所述主体(1)的中轴线垂直的截面上，所述迷宫式流道的壁的截面形状包括平行排布的多个凹槽；相邻所述凹槽的开口处通过连通壁连接；

或，

在与所述主体(1)的中轴线垂直的截面上，所述迷宫式流道的截面形状为依次连接的多个U字形。

6.根据权利要求3所述的法兰，其特征在于，所述水流均布件(4)为设置在所述第一区域(101)内部，且与所述进水管(2)连通的分流管。

7.根据权利要求6所述的法兰，其特征在于，

所述进水管(2)设置在所述第一区域(101)的底部；

所述分流管由底部向顶部延伸；

所述分流管沿其延伸方向间隔设置有多个分流孔(401)。

8.根据权利要求7所述的法兰，其特征在于，沿从底部向顶部的延伸方向，所述分流孔(401)的尺寸逐渐减小。

9.根据权利要求6所述的法兰，其特征在于，

所述进水管(2)设置在所述第一区域(101)的侧部；

所述分流管的延伸方向为水平方向；

所述分流管沿其延伸方向间隔设置有多个分流孔(401)。

10.一种半导体设备，其特征在于，包括：

高温反应腔室；

高温抽气系统，与所述高温反应腔室的侧面连接；

如权利要求1-9任一项所述的法兰，同轴连接于所述高温反应腔室的尾部端面；

其中，所述高温反应腔室的端面靠近所述高温抽气系统的一侧为高温区；所述高温反应腔室的端面远离所述高温抽气系统的一侧为低温区；

所述法兰具有取放孔(103)，所述取放孔(103)具有取放口；所述取放口的延伸方向与所述高温区和所述低温区的分界线平行。