[实用新型]一种顶升结构及物料加工设备

说明书

本实用新型公开了一种顶升结构及物料加工设备，其中顶升结构包括：可升降的顶升组件，顶升组件包括顶升台和多根竖直设置在顶升台上的顶升柱，顶升柱用于顶升装载物料的载板；加热器，用于加热载板，位于顶升台的上方，加热器上设有多个通孔，顶升柱的顶端穿过加热器上的通孔，加热器与位于顶升柱上的载板之间具有空隙。本实用新型提出的顶升结构通过顶升柱上移直接接触载板、顶升载板，加热器不直接与载板接触而是和载板之间留有一定的间隙，从而避免形变的加热器直接与载板接触时使载板受热不均，提升了载板受热的均匀性。

技术领域

本实用新型涉及硅片加工设备技术领域，特别是涉及一种顶升结构及物料加工设备。

背景技术

传统的板式PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition，等离子体增强化学的气相沉积法)设备是将需要做工艺的硅片放在一块载板上，然后由滚轮将载板传输至工艺腔，进行工艺处理。为了达到更好的工艺效果，需要在工艺腔中做工艺处理之前对硅片进行加热，而且硅片表面的温度均匀性越好，工艺效果越好。现有的板式PECVD设备都是通过加热器直接对载板进行加热，再通过载板对硅片进行加热。但是在PECVD设备实际运行的过程中，加热器加热时其上表面会发生翘曲变形，从而载板与加热器接触时会受热不均，进而导致工艺腔镀膜膜厚产生差异。

实用新型内容

本实用新型为了解决上述现有技术中加热器表面形变导致载板受热不均匀的技术问题，提出一种顶升结构及物料加工设备。

本实用新型采用的技术方案是：

本实用新型提出了一种顶升结构及物料加工设备，其中顶升结构包括：

可升降的顶升组件，所述顶升组件包括顶升台和多根竖直设置在所述顶升台上的顶升柱，所述顶升柱用于撑载装载物料的载板；

加热器，位于所述顶升台的上方，所述加热器上设有多个通孔，所述顶升柱的顶端穿过所述加热器上的通孔，所述加热器与位于所述顶升柱上的所述载板之间具有空隙，所述加热器用于加热所述载板。

进一步的，还包括隔热组件，所述隔热组件上设有多个通孔，所述顶升柱穿过所述隔热组件上的通孔，所述隔热组件设置在所述顶升台和所述加热器之间，所述加热器、所述隔热组件上下依次间隔设置。

在一实施例中，多根所述顶升柱的高度一致，所述顶升柱的顶端端面水平设置，所述加热器固定在所述顶升柱上。

在一实施例中，所述隔热组件包括第一反射隔热板和第二反射隔热板，所述第一反射隔热板和所述第二反射隔热板上下间隔设置，所述第一反射隔热板和所述第二反射隔热板覆盖所述顶升台。

进一步的，还包括驱动所述顶升组件升降的驱动组件，所述驱动组件设置在所述顶升台的下方。

在一实施例中，所述第一反射隔热板和所述第二反射隔热板的材质为不锈钢。

在一实施例中，所述顶升台上还设有多个支撑柱，所述加热器固定在所述支撑柱上，所述支撑柱的高度小于所述顶升柱的高度。

物料加工设备，包括壳体、设置在所述壳体内用于装载物料的载板，还包括上文所述的顶升结构，所述顶升结构设置在所述壳体内，所述载板位于所述顶升结构的上方。

进一步的，所述壳体内设有用于水平放置并水平传输所述载板的传输组件。

在一实施例中，所述物料加工设备包括PECVD设备。

与现有技术比较，本实用新型提出的顶升结构通过顶升柱上移直接接触载板、顶升载板，加热器不直接与载板接触而是和载板之间留有一定的间隙，从而避免形变的加热器直接与载板接触时使载板受热不均，提升了载板受热的均匀性。

附图说明