[实用新型]离子溅射仪及其样品台结构

权利要求书

1.一种样品台结构(100)，应用于离子溅射仪中，其特征在于，包括旋转系统(110)及偏转系统(150)；

所述旋转系统(110)设有用于承载样品的样品台且使所述样品台相对于所述离子溅射仪所连接的射频离子源可转动设置；

所述偏转系统(150)与所述旋转系统(110)连接，所述偏转系统(150)用于使所述旋转系统(110)上的所述样品台相对于所述离子溅射仪所连接的射频离子源可偏转设置。

2.根据权利要求1所述样品台结构(100)，其特征在于，所述旋转系统(110)设有公转样品台(120)作为所述样品台，所述公转样品台(120)用于承载样品，且所述公转样品台(120)循环转动设置。

3.根据权利要求2所述样品台结构(100)，其特征在于，所述旋转系统(110)还设有至少一个自转样品台(130)作为所述样品台，所述自转样品台(130)设置于所述公转样品台(120)上且所述公转样品台(120)通过所述自转样品台(130)承载样品，所述自转样品台(130)自身循环转动设置且所述公转样品台(120)还带动所述自转样品台(130)转动。

4.根据权利要求3所述样品台结构(100)，其特征在于，还包括台架(121)、公转动驱动器(122)及至少一个自转动驱动器(123)；

各所述自转动驱动器(123)安装于所述公转样品台(120)上且用于一一对应地带动所述自转样品台(130)转动；

所述公转样品台(120)安装于所述公转动驱动器(122)上，所述公转动驱动器(122)固定于所述台架(121)上且用于带动所述公转样品台(120)转动或者分别带动所述公转样品台(120)上的各所述自转动驱动器(123)转动；

所述偏转系统(150)与所述台架(121)连接，所述偏转系统(150)用于使所述台架(121)相对于所述离子溅射仪所连接的射频离子源可偏转设置。

5.根据权利要求1所述样品台结构(100)，其特征在于，所述偏转系统(150)包括偏转调节部件(180)及偏转轴(190)；

所述偏转调节部件(180)通过所述偏转轴(190)连接所述旋转系统(110)，所述偏转调节部件(180)可转动设置以带动所述偏转轴(190)转动，用于使所述旋转系统(110)上的所述样品台或其台架(121)相对于所述离子溅射仪所连接的射频离子源可偏转设置。

6.根据权利要求5所述样品台结构(100)，其特征在于，还包括与所述旋转系统(110)相连接的旋转转速调节旋钮(170)，所述旋转转速调节旋钮(170)用于调节所述旋转系统(110)或其公转样品台(120)及自转样品台(130)的转速。

7.根据权利要求6所述样品台结构(100)，其特征在于，所述偏转系统(150)还包括旋转转速和偏转角度显示器(160)，所述旋转转速和偏转角度显示器(160)分别连接所述旋转转速调节旋钮(170)及所述偏转调节部件(180)，所述旋转转速和偏转角度显示器(160)用于显示旋转转速和偏转角度。

8.根据权利要求1至7中任一项所述样品台结构(100)，其特征在于，还包括样品台高度调节部件(140)，所述偏转系统(150)通过所述样品台高度调节部件(140)与所述旋转系统(110)连接，所述样品台高度调节部件(140)用于使所述旋转系统(110)上的所述样品台相对于所述离子溅射仪所连接的射频离子源可升降设置。

9.根据权利要求8所述样品台结构(100)，其特征在于，还包括升降架(141)，所述旋转系统(110)滑动设置于所述升降架(141)上，所述样品台高度调节部件(140)带动所述旋转系统(110)或其公转样品台(120)或其台架(121)沿所述升降架(141)滑动。

10.一种离子溅射仪，其特征在于，包括真空腔室(200)及设置于所述真空腔室(200)中的如权利要求1至9中任一项所述样品台结构(100)。