[实用新型]基座支撑装置及薄膜沉积设备

权利要求书

1.一种基座支撑装置，其特征在于，包括基座和旋转轴；

所述基座包括第一表面和第二表面，所述第一表面用于放置若干待处理的基片，所述第二表面中心处设置有凹陷部，且所述凹陷部向所述基座内延伸一深度；

所述旋转轴的一端设置有凸设部，且所述凸设部与所述凹陷部适配连接，以使所述旋转轴带动所述基座同步发生转动；

所述凸设部和所述凹陷部沿着所述旋转轴的径向截面均呈多边形结构；

其中，所述凹陷部向所述基座内延伸的深度与所述基座的转速相适配。

2.根据权利要求1所述的基座支撑装置，其特征在于，所述凸设部与所述凹陷部均呈棱台形结构或棱柱形结构。

3.根据权利要求2所述的基座支撑装置，其特征在于，在所述凸设部呈棱台形结构时，所述凸设部的侧面面积沿着所述基座向所述旋转轴的方向逐渐增大。

4.根据权利要求3所述的基座支撑装置，其特征在于，所述棱台形结构的棱延长线与所述旋转轴的轴线之间形成角A，所述角A的范围介于0至90°之间。

5.根据权利要求4所述的基座支撑装置，其特征在于，在所述旋转轴的转速介于0至200rpm时，所述角A的范围介于45°至90°之间；在所述旋转轴的转速大于200rpm时，所述角A的范围介于0至45°之间。

6.根据权利要求1所述的基座支撑装置，其特征在于，所述凹陷部向所述基座内延伸的深度小于所述基座厚度的一半。

7.根据权利要求1所述的基座支撑装置，其特征在于，所述凸设部呈伞状结构，所述伞状结构的底面呈多边形结构，所述凹陷部为与所述伞状结构适配的形状。

8.根据权利要求1所述的基座支撑装置，其特征在于，所述凸设部的侧面沿周向设置有若干个限位条，所述凹陷部的壁上设有与所述限位条相卡接的限位槽。

9.根据权利要求8所述的基座支撑装置，其特征在于，所述限位条的两端点的连线与所述旋转轴的轴线之间形成角B，所述角B的范围介于0至90°之间。

10.一种薄膜沉积设备，其特征在于，包含如权利要求1至9中任意一项所述的基座支撑装置。