[实用新型]一种背胶全自动擦片设备有效
申请号: | 202222197408.5 | 申请日: | 2022-08-19 |
公开(公告)号: | CN217797588U | 公开(公告)日: | 2022-11-15 |
发明(设计)人: | 陈小响;杜阳 | 申请(专利权)人: | 江苏芯德半导体科技有限公司 |
主分类号: | B08B1/02 | 分类号: | B08B1/02;B08B5/02;B08B13/00 |
代理公司: | 南京华恒专利代理事务所(普通合伙) 32335 | 代理人: | 裴素艳 |
地址: | 210000 江苏省南*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 全自动 设备 | ||
本实用新型属于半导体封装技术领域,具体涉及一种背胶全自动擦片设备,包括从左到右依次设置的上料装置、清洁装置和下料装置,所述清洁装置包括固定台,所述固定台中心通过旋转轴固定有擦片底盘,所述擦片底盘的外周固定有喷淋装置、清洁装置和吹气装置,所述喷淋装置、清洁装置和吹气装置均围绕固定端做旋转,整个过程实现全自动清洁作业,大大提高了清洁效率。
技术领域
本发明属于半导体封装技术领域,尤其涉及一种背胶全自动擦片设备。
背景技术
晶圆背胶是指将由感光材料制成的胶膜贴附至晶圆的背侧面,沿晶圆的外边缘对胶膜进行曝光,利用显影液对曝光后的胶膜进行清洗,以去除晶圆的外边缘外围的胶膜,经过这一系列操作从而完成整个背胶工序。
在进行背胶前需要对来料晶圆进行背面擦片,在这一过程中都是人工手动擦片,作业员将晶圆手动放置到擦片平台上,使用酒精和无尘布对晶圆背面进行擦片清洁,在清洁过程中可能会由于人工操作不当,对晶圆产生一定的损伤,而且费时费力、清洁速度慢,大大降低了清洁效率。
发明内容
本实用新型目的在于提供一种背胶全自动擦片设备,以解决人工手动擦片导致清洁不方便且效率低下的技术问题。
为解决上述技术问题,本实用新型的一种背胶全自动擦片设备的具体技术方案如下:
一种背胶全自动擦片设备,包括从左到右依次设置的上料装置、清洁装置和下料装置;所述清洁装置包括固定台,所述固定台中心通过旋转轴固定有擦片底盘,所述擦片底盘的外周固定有喷淋装置、清洁装置和吹气装置,所述喷淋装置、清洁装置和吹气装置均围绕固定端做旋转,整个过程实现全自动清洁作业,大大提高了清洁效率。
进一步,所述擦片底盘包含同轴设置的8寸放置台和12寸放置台,且处于同一平面上,可以清洁不同尺寸的晶圆,大大提高了该设备的利用率。
进一步,所述8寸放置台(12)和12寸放置台(13)的外围均设置有支撑柱(15),用于定位放置晶圆。
进一步,所述支撑柱(15)的数量设置为至少三个,能够稳定维持晶圆。
进一步,所述喷淋装置、所述清洁装置以及所述吹气装置均包含转轴和驱动所述转轴转动的旋转马达,所述旋转马达设置在所述固定台上,所述转轴上套接有固定杆;所述喷淋装置的固定杆的悬空端设置有酒精喷头,所述吹气装置的固定杆的悬空端设置有吹气喷头,所述清洁装置的固定杆的悬空端设置有清洁头。
进一步,所述清洁头、所述吹气喷头和所述酒精喷头处均设置有感应器。
进一步包含上料片架和在所述上料片架和所述擦片底盘之间移动的上料手臂。
进一步,所述下料装置包含下料片架和在所述下料片架和所述擦片底盘之间移动的下料手臂,实现了晶圆自动抓取功能。
进一步,所述固定台的外侧设置有清洗防护罩,避免在清洁的过程中污渍外溅,对周围环境造成污染。
本实用新型的一种背胶全自动擦片设备,通过上料装置将晶圆抓取到清洁底盘上进行清洁,清洁底盘上设置有清洁装置、喷淋装置以及吹气装置能够进行全自动清洁作业,清洁完毕通过下料装置将晶圆去下,整个过程无需人工操作,大大提高了清洁效率的同时也节约了人力成本。
附图说明
图1为本实用新型的一种背胶全自动擦片设备俯视图;
图中标记说明:1、上料片架;2、晶圆;3、上料手臂;4、清洗防护罩;5、擦片底盘;6、清洁头;7、旋转马达;8、吹气喷头;9、酒精喷头;10、下料手臂;11、下料片架;12、8寸放置台;13、12寸放置台;14、固定台;15、支撑柱。
具体实施方式
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