[实用新型]一种植球装载清洁装置有效
| 申请号: | 202222159352.4 | 申请日: | 2022-08-16 |
| 公开(公告)号: | CN218160297U | 公开(公告)日: | 2022-12-27 |
| 发明(设计)人: | 石磊;吴德中 | 申请(专利权)人: | 江苏芯德半导体科技有限公司 |
| 主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/60;B08B1/02 |
| 代理公司: | 无锡华越知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32571 | 代理人: | 朱锦国 |
| 地址: | 210000 江苏省南*** | 国省代码: | 江苏;32 |
| 权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 种植 装载 清洁 装置 | ||
本实用新型公开了一种植球装载清洁装置,与植球机配合使用,植球装载清洁装置位于废球盒与球盘之间,植球装载清洁装置包括挂件、固定件和刮片,挂件安装于废球盒靠近球盘的一侧,刮片通过固定件固定于挂件,固定件的上部朝球盘所在侧呈倾斜设置,刮片的顶部高于废球盒、且靠近球盘的上方;锡球吸取后,植球模具离开球盘时,经刮片挂掉多余的锡球和/或锡球表面异物。本实用新型采用轻便的装载清洁方式,锡球吸取后去除黏带的多余锡球和锡球表面异物,清洁彻底、面积覆盖全面,降低黏球风险,提高植球效率和良品率。
技术领域
本实用新型涉及半导体封装技术领域,更具体涉及一种用于对植球模具表面异物进行清洁并降低黏球风险、提高植球良品率的植球装载清洁装置。
背景技术
随着消费类电子的迅速增长,使得BGA(全称:Ball Grid Array焊球阵列封装)产品需求量也日益增长。相对应的,我们封装的要求也更高,对我们产品的良率要求也越来越高。
BGA封装中采用植球机完成植球,参见图1,植球机中一般设置有:球盘、废球盒、植球模具、检测装置、以及用于放置基板的底座。植球过程如下:植球模具先在球盘中吸取焊球(即锡球);植球模具移动至检测位,检测装置移动至植球模具下方,对植球模具吸取焊球的一面拍照,如果检测合格,则将植球模具移动至底座位置,将焊球放置于基板表面;如果检测异常,则植球模具移动至废球盒上方,将焊球抛进废料盒,重新移动至球盘吸取焊球。通常情况下,球盘内存在异物或者植球模具脏污,都有可能造成检测异常,导致植球模具往复的进行吸抛动作,既浪费材料又浪费了时间,并对植球良率造成严重影响。
实用新型内容
为了解决上述问题,本实用新型提供了一种植球装载清洁装置,采用轻便的装载清洁方式,对植球模具寿命不会造成任何影响,锡球吸取后去除黏带的多余锡球和锡球表面异物,清洁彻底、面积覆盖全面,提高植球效率和良品率。
根据本实用新型的一个方面,提供了一种植球装载清洁装置,与植球机配合使用,植球机包括球盘、废球盒、植球模具、检测装置、以及用于放置基板的底座,植球装载清洁装置位于废球盒与球盘之间,植球装载清洁装置包括挂件、固定件和刮片,挂件安装于废球盒靠近球盘的一侧,刮片通过固定件固定于挂件,固定件的上部朝球盘所在侧呈倾斜设置,刮片的顶部高于废球盒、且靠近球盘的上方;
锡球吸取后,植球模具离开球盘时,经刮片挂掉多余的锡球和/或锡球表面异物。
在一些实施方式中,固定件的下部与挂件通过磁铁吸附连接,刮片被夹持于挂件与固定件的下部之间。
在一些实施方式中,挂件的截面呈“Π”型,挂件悬挂于废球盒的侧壁,固定件与挂件的连接处为一平面,固定件的上部与挂件的侧壁形成夹角,刮片的顶部突出于固定件的顶部。
在一些实施方式中,刮片的顶部突出废球盒的顶部的距离为3~5cm。
在一些实施方式中,固定件的上部与挂件的侧壁形成的夹角为15~30°。
在一些实施方式中,刮片采用防静电纸张或防静电塑料薄片。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:本实用新型提供的植球装载清洁装置设计巧妙,配合植球机使用工艺工作过程合理,采用轻便的装载清洁方式,植球模具移动至球盘处,植球模具吸取球盘中的锡球,锡球吸取后,吸有锡球的植球模具经过植球装载清洁装置上方,刮片会将植球模具下方多余锡球去除、降低黏球风险,且刮片在去除多余锡球的同时还能清洁掉锡球表面的异物,然后再去检测装置处进行检测,这样,清洁彻底、面积覆盖全面,大大增加了锡球成功率,减少了锡球的浪费,提高了植球效率和植球良品率;并且刮片采用轻薄材料,对植球模具寿命、锡球本身不会造成任何影响。
附图说明
图1是现有技术中,植球机的部件分布示意图;
图2是本实用新型一种植球装载清洁装置的一实施方式的结构示意图;
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于江苏芯德半导体科技有限公司,未经江苏芯德半导体科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202222159352.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种路面渗水系数的测定装置
- 下一篇:一种金属渗氮炉用废气净化装置
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造





