[实用新型]一种涂布装置有效

专利信息
申请号: 202222080518.3 申请日: 2022-08-08
公开(公告)号: CN217857069U 公开(公告)日: 2022-11-22
发明(设计)人: 毕恩兵;金童 申请(专利权)人: 宣城先进光伏技术有限公司
主分类号: B05C9/14 分类号: B05C9/14;B05C15/00;B05D3/04;B05C5/02;B05D3/02
代理公司: 北京三聚阳光知识产权代理有限公司 11250 代理人: 刘洋
地址: 242000 安徽*** 国省代码: 安徽;34
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摘要:
搜索关键词: 一种 装置
【说明书】:

本实用新型提供一种涂布装置,包括:涂布平台,涂布平台适于承载基片以在基片表面形成液膜;盖体,盖体具有远离涂布平台的第一状态、以及与涂布平台接触的第二状态,盖体与涂布平台接触以形成密闭空间,涂布有液膜的基片适于位于密闭空间内;加热部,加热部位于盖体内,加热部适于对密闭空间进行加热。上述涂布装置不需要对基片进行转移,在涂布液膜的位置就能够进行对液膜的后处理以得到固体薄膜,不仅避免了由于基片转移导致的基片破碎,还节约了制备时间,提高了生产效率。此外,上述涂布装置结构简单,具有较强的实用性。

技术领域

本实用新型涉及薄膜制备技术领域,具体涉及一种涂布装置。

背景技术

涂布工艺为在基片表面制备薄膜的常规方法。涂布工艺包括以下步骤:将基片放置在涂布装置中,在基片表面涂布前驱体溶液以形成液膜;将具有液膜的基片转移至后处理设备,对液膜进行后处理,以得到稳定的固体薄膜。

然而,基片在上述转移过程中容易发生跌落,从而导致基片破碎,不仅降低了生产效率,还造成了基片的浪费。

发明内容

因此,本实用新型要解决的技术问题在于克服现有涂布工艺易导致基片破碎的缺陷,从而提供一种涂布装置。

本实用新型提供一种涂布装置,包括:涂布平台,所述涂布平台适于承载基片以在所述基片表面形成液膜;盖体,所述盖体具有远离所述涂布平台的第一状态、以及与所述涂布平台接触的第二状态,所述盖体与所述涂布平台接触以形成密闭空间,涂布有液膜的所述基片适于位于所述密闭空间内;加热部,所述加热部位于所述盖体内,所述加热部适于对所述密闭空间进行加热。

可选的,所述涂布装置还包括减压部,所述减压部适于对所述密闭空间进行减压。

可选的,所述盖体包括:顶板;侧板,所述侧板围设在所述顶板的边缘,所述侧板的一端与所述顶板连接;密封圈,所述密封圈嵌设在所述侧板的另一端且适于与所述涂布平台接触。

可选的,所述涂布装置还包括位于所述涂布平台上的至少两个限位杆,所述限位杆朝向远离所述涂布平台的方向延伸,所述限位杆贯穿所述盖体,所述盖体适于沿所述限位杆进行升降运动;所述涂布平台具有涂布区域,所述涂布区域适于承载所述基片,所述涂布区域位于所述盖体在所述涂布平台的正投影内。

可选的,所述涂布装置还包括升降部,所述升降部与所述盖体的外侧连接,所述升降部适于带动所述盖体进行升降运动,以使所述盖体在第一状态和第二状态下交替变化。

可选的,所述涂布装置还包括涂布组件,所述涂布组件包括:位于所述涂布平台侧部的轨道和滑动件,所述滑动件适于沿着所述轨道滑动;位于所述涂布平台上方的涂头,所述涂头与所述滑动件连接,所述涂头至所述涂布平台的最大距离小于所述盖体至所述涂布平台的最小距离,且小于所述限位杆的长度;所述涂布平台具有初始位置,所述涂头在所述初始位置不进行涂布,所述涂布区域位于所述初始位置与所述限位杆之间。

可选的,所述涂布装置还包括抽气孔,所述抽气孔位于所述涂布平台或所述盖体上,所述抽气孔适于位于所述密闭空间内;真空管路,所述真空管路连通所述抽气孔和所述减压部,以对所述密闭空间进行减压。

可选的,所述抽气孔位于所述涂布平台上。

可选的,所述涂布装置还包括进气孔,所述进气孔位于所述涂布平台或所述盖体上,所述进气孔适于位于所述密闭空间内;气源和进气管,所述进气管连通所述气源与所述进气孔。

可选的,所述进气孔位于所述涂布平台上。

本实用新型技术方案,具有如下优点:

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